摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-31页 |
·一维纳米材料简介 | 第11-13页 |
·纳米材料及分类 | 第11-12页 |
·一维纳米材料分类 | 第12-13页 |
·一维纳米材料的研究现状和发展趋势 | 第13-17页 |
·一维纳米材料的研究现状 | 第13-15页 |
·一维纳米材料的发展趋势 | 第15-17页 |
·一维纳米结构制备方法及生长机理 | 第17-23页 |
·一维纳米材料制备方法 | 第18-21页 |
·一维纳米材料生长机理 | 第21-23页 |
·半导体一维纳米材料研究动态 | 第23-28页 |
·氧化锌纳米半导体材料 | 第24页 |
·硫化镉纳米半导体材料 | 第24-26页 |
·铝酸锌纳米半导体材料 | 第26-27页 |
·氧化锡纳米半导体材料 | 第27-28页 |
·本文的研究内容及意义 | 第28-31页 |
·本文的研究内容 | 第28页 |
·本文的研究意义 | 第28-31页 |
第二章 特殊形貌铝酸锌、氧化锌纳米管制备及机理研究 | 第31-69页 |
·实验方案 | 第32页 |
·样品表征 | 第32-33页 |
·氧化铝模板制备 | 第33-37页 |
·氧化铝模板的制备工艺 | 第33-36页 |
·影响氧化铝模板孔径尺寸的主要因素 | 第36-37页 |
·锌纳米线的制备与表征 | 第37-38页 |
·锌纳米线的制备 | 第37-38页 |
·锌纳米线的XRD | 第38页 |
·样品低温退火处理 | 第38-39页 |
·“铝酸锌纳米管阵列”及“铝酸锌/氧化锌复合纳米管阵列”的制备 | 第39-48页 |
·制备方案示意图 | 第39页 |
·样品高温退火处理 | 第39-42页 |
·对高温退火后样品的刻蚀处理 | 第42-43页 |
·实验结果及分析 | 第43-48页 |
·“铝酸锌纳米管”、“铝酸锌/氧化锌复合纳米管”形成机理分析 | 第48-51页 |
·锌纳米线低温退火处理 | 第48页 |
·样品高温退火处理 | 第48-50页 |
·样品的刻蚀处理 | 第50-51页 |
·“多通道铝酸锌纳米管”的制备 | 第51-57页 |
·制备方案示意图 | 第51页 |
·样品的高温退火处理 | 第51-53页 |
·样品的刻蚀处理 | 第53页 |
·实验结果 | 第53-57页 |
·“多通道铝酸锌纳米管”形成机理分析 | 第57-60页 |
·样品高温退火处理 | 第57-58页 |
·样品的刻蚀处理 | 第58-60页 |
·“氧化锌/铝酸锌复合纳米管与碳纳米管异质结”的制备 | 第60-67页 |
·制备示意图 | 第60-62页 |
·实验结果及分析 | 第62-67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第三章 “CdS纳米线/碳纳米管异质结阵列”的制备 | 第69-85页 |
·CdS纳米线/碳纳米管阵列制备 | 第70-71页 |
·CdS纳米线的制备 | 第70-71页 |
·碳纳米管的组装 | 第71页 |
·“碳纳米管/CdS纳米线/碳纳米管阵列”制备 | 第71-73页 |
·金属铜纳米线的制备 | 第73页 |
·过渡段铜纳米线的腐蚀 | 第73页 |
·实验结果表征及分析 | 第73-82页 |
·影响CdS纳米线/碳纳米管异质结阵列制备的因素 | 第82-83页 |
·氧化铝模板的影响 | 第82-83页 |
·电沉积因素的影响 | 第83页 |
·化学气象沉积因素的影响 | 第83页 |
·本章小结 | 第83-85页 |
第四章 锯齿状氧化锡纳米线的制备及发光性能研究 | 第85-97页 |
·实验方案及样品制备 | 第85-86页 |
·结构表征及结果分析 | 第86-92页 |
·锯齿状SnO_2纳米结构形成机理 | 第92-95页 |
·锯齿状SnO_2纳米线发光性能研究 | 第95-96页 |
·本章小结 | 第96-97页 |
第五章 总结与展望 | 第97-99页 |
·本论文的主要研究结果和创新点 | 第97-98页 |
·本论文的主要研究结果 | 第97-98页 |
·本论文的主要创新点 | 第98页 |
·今后工作展望 | 第98-99页 |
致谢 | 第99-101页 |
参考文献 | 第101-117页 |
附录A (攻读博士学位期间发表的论文、专利及参加的科研项目) | 第117-118页 |