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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--直流反应磁控溅射制备Cu2O/TiO2复合薄膜及其光催化性能的研究
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直流反应磁控溅射制备Cu2O/TiO2复合薄膜及其光催化性能的研究
 
     论文目录
 
中文摘要第1-4页
英文摘要第4-9页
1 绪论第9-27页
   ·引言第9-10页
   ·半导体光催化基本原理第10-12页
   ·光催化技术的应用第12-14页
     ·水中污染物的降解第12-13页
     ·大气污染物的降解第13页
     ·水解制氢第13-14页
     ·光催化的杀菌与消毒第14页
     ·太阳能的转化第14页
   ·光催化剂研究现状及其活性提高的主要途径第14-19页
     ·离子掺杂第16-17页
     ·贵金属沉积第17页
     ·光敏化第17-18页
     ·半导体复合第18页
     ·表面衍生及螯合作用第18-19页
     ·表面还原处理第19页
   ·纳米薄膜材料的制备方法第19-25页
     ·真空蒸发法第20页
     ·分子束外延法第20-21页
     ·磁控溅射法第21-23页
     ·化学气相沉积法第23-24页
     ·溶胶-凝胶法第24页
     ·电化学沉积法第24-25页
     ·化学镀法第25页
   ·本课题的研究目的及意义第25-27页
2 实验准备部分第27-34页
   ·实验仪器第27页
   ·实验试剂与材料第27-28页
   ·光催化剂表征方法第28-30页
     ·X 射线衍射法(XRD)第28-29页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第29页
     ·紫外-可见分光光度法第29-30页
     ·DFT 简介第30页
   ·样品制备第30-31页
     ·Ti0_2 薄膜的制备第30-31页
     ·Cu_20 薄膜的制备第31页
     ·Cu_20/Ti0_2 复合薄膜的制备第31页
   ·光催化测试与表征第31-34页
     ·光催化性能测试第31-32页
     ·光催化降解率的计算第32-34页
3 Cu_20 薄膜的表征及其光催化活性第34-41页
   ·前言第34页
   ·Cu_20 薄膜的表征第34-38页
     ·Cu_20 薄膜的XRD 和EDS 表征第34-35页
     ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的XRD 表征第35-36页
     ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的SEM 分析第36-37页
     ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的紫外-可见吸收光谱第37-38页
   ·Cu_20 不同晶面对0_2吸附分析第38-39页
   ·不同溅射时间Cu_20 薄膜的光催化活性第39-40页
   ·本章小结第40-41页
4 Cu_20/Ti0_2复合薄膜的表征及其光催化活性第41-48页
   ·前言第41页
   ·Ti0_2 的表征第41-43页
     ·Ti0_2 的XRD 分析第41-42页
     ·Ti0_2 的紫外可见透射光谱分析第42-43页
   ·Cu_20/Ti0_2 复合薄膜的表征第43-44页
   ·各种Cu_20/Ti0_2薄膜的光催化活性第44-45页
   ·通入气体对MB 光催化作用的影响第45-46页
   ·初始pH 值对MB 光催化作用的影响第46-47页
   ·本章小结第47-48页
5 结论第48-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-56页
附录 研究生期间发表的论文第56页

 
 
论文编号BS274150,这篇论文共56
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