摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第14-38页 |
1.1 引言 | 第14-17页 |
1.1.1 腐蚀防护技术的发展与挑战 | 第14-15页 |
1.1.2 镁合金材料的优势与潜力 | 第15-17页 |
1.2 耐蚀涂层的结构设计与制备工艺 | 第17-24页 |
1.2.1 涂层结构设计思路 | 第17-20页 |
1.2.2 常用涂层制备工艺 | 第20-24页 |
1.3 离子液体与低共熔溶剂 | 第24-30页 |
1.3.1 离子液体简介 | 第24-26页 |
1.3.2 低共熔溶剂的发展与应用 | 第26-28页 |
1.3.3 低共熔溶剂中涂层制备的研究现状 | 第28-30页 |
1.4 镁合金表面仿生涂层 | 第30-35页 |
1.4.1 超疏水与超润滑表面 | 第30-34页 |
1.4.2 自愈合涂层 | 第34-35页 |
1.5 课题研究意义与内容 | 第35-38页 |
第二章 实验内容和测试方法 | 第38-48页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第38-39页 |
2.1.1 化学试剂 | 第38-39页 |
2.1.2 实验仪器 | 第39页 |
2.2 溶液配制与基体预处理 | 第39-41页 |
2.2.1 低共熔溶剂制备 | 第39-40页 |
2.2.2 基体预处理 | 第40页 |
2.2.3 涂层表面改性 | 第40-41页 |
2.3 材料结构表征与分析 | 第41-43页 |
2.3.1 表面形貌及显微结构表征 | 第41页 |
2.3.2 晶体结构及物相分析 | 第41-42页 |
2.3.3 元素组成及化学价态分析 | 第42-43页 |
2.4 低共熔溶剂体系溶液性能测试 | 第43页 |
2.5 材料性能测试与分析 | 第43-48页 |
2.5.1 表面润湿性 | 第43-44页 |
2.5.2 机械性能 | 第44页 |
2.5.3 防结冰性能 | 第44-46页 |
2.5.4 耐腐蚀性能 | 第46-48页 |
第三章 低共熔溶剂中双层结构Sn基合金镀层的电化学沉积及耐腐蚀性能 | 第48-72页 |
3.1 引言 | 第48页 |
3.2 电沉积自组装双层结构Co-Sn合金镀层 | 第48-58页 |
3.2.1 Co-Sn合金镀层的电沉积制备 | 第48-49页 |
3.2.2 低共熔溶剂体系溶液的循环伏安性能 | 第49-50页 |
3.2.3 Co-Sn合金镀层的晶体结构 | 第50-52页 |
3.2.4 Co-Sn合金镀层的表面形貌与成分组成 | 第52-54页 |
3.2.5 Co-Sn合金镀层的截面TEM观测 | 第54-56页 |
3.2.6 Co-Sn合金镀层的耐腐蚀性能 | 第56-58页 |
3.3 动电位沉积双层结构Zn-Sn合金镀层 | 第58-70页 |
3.3.1 Zn-Sn合金镀层的动电位沉积法 | 第58页 |
3.3.2 低共熔溶剂中Zn-Sn合金的动电位沉积 | 第58-59页 |
3.3.3 Zn-Sn合金镀层的表面形貌与化学组分 | 第59-61页 |
3.3.4 Zn-Sn合金镀层的表面状态与晶体结构 | 第61-63页 |
3.3.5 Zn-Sn合金镀层的截面TEM观测 | 第63-64页 |
3.3.6 Zn-Sn合金镀层的耐蚀性能 | 第64-66页 |
3.3.7 Zn-Sn合金镀层的钝化行为 | 第66-70页 |
3.4 本章小结 | 第70-72页 |
第四章 基于低共熔溶剂的电刷镀Ni与Cr(Ⅲ)电镀工艺 | 第72-94页 |
4.1 引言 | 第72-73页 |
4.2 低共熔溶剂辅助电刷镀纳米晶Ni镀层 | 第73-81页 |
4.2.1 Ni镀层的电镀和电刷镀工艺 | 第73页 |
4.2.2 Ni镀层的表面形貌与化学成分 | 第73-76页 |
4.2.3 Ni镀层的晶体结构与截面TEM观测 | 第76-77页 |
4.2.4 Ni镀层的力学与摩擦学性能 | 第77-80页 |
4.2.5 Ni镀层的耐腐蚀性能 | 第80-81页 |
4.3 Cr(Ⅲ)-低共熔溶剂体系电镀Cr及Cr-P镀层 | 第81-92页 |
4.3.1 Cr和Cr-P镀层的电镀工艺 | 第81-82页 |
4.3.2 低共熔溶剂中Cr(Ⅲ)的电化学沉积行为 | 第82-84页 |
4.3.3 Cr和Cr-P镀层的表面形貌与化学成分 | 第84-87页 |
4.3.4 Cr和Cr-P镀层的晶体结构与表面状态 | 第87-89页 |
4.3.5 Cr和Cr-P镀层的腐蚀行为 | 第89-92页 |
4.4 本章小结 | 第92-94页 |
第五章 镁合金表面仿生结构涂层的设计、合成及应用 | 第94-132页 |
5.1 引言 | 第94-95页 |
5.2 活泼基体表面直接电沉积超疏水Cu薄膜 | 第95-105页 |
5.2.1 Cu薄膜的电沉积制备 | 第95-96页 |
5.2.2 Cu薄膜的晶体结构与表面形貌 | 第96-99页 |
5.2.3 Cu薄膜的润湿行为 | 第99-101页 |
5.2.4 Cu薄膜的表面组分与状态 | 第101-103页 |
5.2.5 Cu薄膜的耐蚀性能 | 第103-105页 |
5.3 Mg合金表面化学镀超疏水和自愈合双功能转化膜 | 第105-115页 |
5.3.1 Cr(Ⅲ)转化膜的化学镀制备 | 第105页 |
5.3.2 Cr(Ⅲ)转化膜的表面形貌与化学组态 | 第105-107页 |
5.3.3 Cr(Ⅲ)转化膜的TEM观测 | 第107-109页 |
5.3.4 Cr(Ⅲ)转化膜的润湿行为 | 第109页 |
5.3.5 Cr(Ⅲ)转化膜的耐腐蚀性能 | 第109-111页 |
5.3.6 Cr(Ⅲ)转化膜的自愈合行为 | 第111-115页 |
5.4 Mg合金表面水热合成超润滑双层结构涂层 | 第115-130页 |
5.4.1 碳酸盐基复合涂层的水热合成 | 第115页 |
5.4.2 碳酸盐基复合涂层的晶体结构 | 第115-116页 |
5.4.3 碳酸盐基复合涂层的表面形貌与化学组分 | 第116-120页 |
5.4.4 碳酸盐基复合涂层的润湿行为 | 第120-122页 |
5.4.5 碳酸盐基复合涂层的耐腐蚀性能 | 第122-126页 |
5.4.6 碳酸盐基复合涂层的防结冰性能 | 第126-129页 |
5.4.7 碳酸盐基复合涂层的冷凝行为 | 第129-130页 |
5.5 本章小结 | 第130-132页 |
第六章 外场作用下低共熔溶剂与镁合金的界面反应和成膜机理 | 第132-152页 |
6.1 引言 | 第132页 |
6.2 低共熔溶剂阳极处理合成Mg合金表面转化膜 | 第132-141页 |
6.2.1 Mg合金表面在低共熔溶剂中的阳极处理过程 | 第132-134页 |
6.2.2 阳极处理转化膜的表面形貌与晶体结构 | 第134-136页 |
6.2.3 阳极处理转化膜的化学组成与表面状态 | 第136-138页 |
6.2.4 阳极处理转化膜的可能成膜机理 | 第138-139页 |
6.2.5 阳极处理转化膜的润湿行为与耐蚀性能 | 第139-141页 |
6.3 利用低共熔溶剂热分解制备Mg合金表面转化膜 | 第141-149页 |
6.3.1 低共熔溶剂在Mg与Mg合金表面的热分解工艺 | 第141-142页 |
6.3.2 热分解转化膜的形成过程 | 第142-144页 |
6.3.3 热分解转化膜的表面形貌 | 第144-145页 |
6.3.4 热分解转化膜的晶体结构和化学成分 | 第145-148页 |
6.3.5 热分解转化膜的光学性能和耐蚀性能 | 第148-149页 |
6.4 本章小结 | 第149-152页 |
第七章 结论与展望 | 第152-156页 |
7.1 主要结论与创新 | 第152-153页 |
7.2 未来研究展望 | 第153-156页 |
参考文献 | 第156-182页 |
致谢 | 第182-186页 |
个人简历 | 第186-188页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第188-190页 |