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磁屏蔽体分缝特性与修补技术的研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第5-6页 | | Abstract | 第6-7页 | | 第1章 绪论 | 第13-19页 | | 1.1 背景与意义 | 第13-14页 | | 1.2 国内外发展现状 | 第14-17页 | | 1.2.1 电磁屏蔽材料的发展现状 | 第14-16页 | | 1.2.2 电磁屏蔽特性的研究现状 | 第16-17页 | | 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-19页 | | 第2章 电磁屏蔽的基本原理 | 第19-26页 | | 2.1 电磁屏蔽的定义和分类 | 第19-24页 | | 2.1.1 电场屏蔽原理 | 第19-21页 | | 2.1.2 磁场屏蔽原理 | 第21-22页 | | 2.1.3 电磁屏蔽原理 | 第22-24页 | | 2.1.4 超导屏蔽原理 | 第24页 | | 2.2 电磁屏蔽效能 | 第24-25页 | | 2.3 本章小结 | 第25-26页 | | 第3章 Maxwell有限元法和电磁场仿真基础 | 第26-31页 | | 3.1 有限元法简介 | 第26页 | | 3.2 有限元法的数学基础 | 第26页 | | 3.3 有限元法的应用步骤 | 第26-27页 | | 3.4 Ansoft电磁场仿真 | 第27-30页 | | 3.4.1 电磁场求解的边界条件 | 第27-30页 | | 3.5 本章小结 | 第30-31页 | | 第4章 圆柱形屏蔽体分缝对屏蔽效能的影响的研究 | 第31-46页 | | 4.1 引言 | 第31-32页 | | 4.2 仿真参数的设置 | 第32-33页 | | 4.3 单条分缝对屏蔽效能的影响 | 第33-35页 | | 4.4 两条分缝对屏蔽效能的影响 | 第35-45页 | | 4.4.1 上底面分缝 | 第35-38页 | | 4.4.2 上下底面分缝 | 第38-41页 | | 4.4.3 侧面分缝 | 第41-43页 | | 4.4.4 横切分缝 | 第43-45页 | | 4.5 本章小结 | 第45-46页 | | 第5章 圆柱形屏蔽体分缝修补技术的研究 | 第46-63页 | | 5.1 引言 | 第46-47页 | | 5.2 仿真参数的设置 | 第47页 | | 5.3 单条分缝的修补对屏蔽效能的影响 | 第47-49页 | | 5.4 两条分缝的修补对屏蔽效能的影响 | 第49-61页 | | 5.4.1 上底面分缝 | 第49-52页 | | 5.4.2 上下底面分缝 | 第52-56页 | | 5.4.3 侧面分缝 | 第56-59页 | | 5.4.4 横切分缝 | 第59-61页 | | 5.5 实验研究 | 第61-62页 | | 5.6 本章小结 | 第62-63页 | | 结论与展望 | 第63-65页 | | 参考文献 | 第65-71页 | | 致谢 | 第71-72页 | | 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第72页 |
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论文编号BS4001451，这篇论文共72页
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