摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
·半导体光催化简介 | 第9-14页 |
·研究背景 | 第9页 |
·光催化原理及技术难题 | 第9-10页 |
·光催化材料的设计基础 | 第10-14页 |
·柱撑层状过渡金属化合物的研究进展 | 第14-17页 |
·层状过渡金属氧化物的结构 | 第14页 |
·柱撑复合材料的制备方法 | 第14-15页 |
·柱撑复合材料的特点及应用 | 第15-17页 |
·层状四钛酸盐的研究进展 | 第17-18页 |
·本文选题意义及工作内容 | 第18-20页 |
第2章 K_2Ti_4O_9的制备及剥离性能 | 第20-27页 |
·实验部分 | 第20-22页 |
·主要试剂和仪器 | 第20-21页 |
·K_2Ti_4O_9的制备 | 第21页 |
·Ti_4O_9~(2-)纳米片层溶胶的制备 | 第21-22页 |
·Ti_4O_9~(2-)纳米片层薄膜电极的制备 | 第22页 |
·材料的测试与表征 | 第22页 |
·结果与讨论 | 第22-26页 |
·材料的 XRD 图 | 第22-23页 |
·材料的 SEM 图 | 第23-24页 |
·Ti_4O_9~(2-)纳米片层的表面ζ电位 | 第24页 |
·纳米片层薄膜的 Mott-Schottky 曲线 | 第24-26页 |
·结论 | 第26-27页 |
第3章 SnO_2-四钛酸柱撑材料的制备与表征 | 第27-42页 |
·实验部分 | 第27-31页 |
·主要试剂和仪器 | 第27页 |
·SnO_2溶胶的制备 | 第27-28页 |
·SnO_2-H_2Ti_4O_9材料的制备 | 第28页 |
·材料的测试与表征 | 第28-29页 |
·柱撑材料的光催化性能评价 | 第29-31页 |
·结果与讨论 | 第31-41页 |
·材料的 XRD 图 | 第31-32页 |
·柱撑材料的 SEM、HR-TEM 图及 EDX 谱 | 第32页 |
·sol-H_2Ti_4O_9的 TG-DTA 曲线 | 第32-33页 |
·材料的 FT-IR 谱 | 第33-34页 |
·材料的 N2吸附-脱附曲线 | 第34-36页 |
·材料的 UV-Vis DRS 谱 | 第36-37页 |
·材料的 XPS 谱 | 第37-38页 |
·材料的紫外光光催化活性 | 第38-41页 |
·结论 | 第41-42页 |
第4章 Fe_2O_3-四钛酸柱撑材料的制备与表征 | 第42-54页 |
·实验部分 | 第42-44页 |
·主要试剂和仪器 | 第42页 |
·Fe_2O_3溶胶的制备 | 第42-43页 |
·Fe_2O_3-H_2Ti_4O_9材料的制备 | 第43页 |
·材料的测试与表征 | 第43页 |
·材料的光催化性能评价 | 第43-44页 |
·结果与讨论 | 第44-53页 |
·材料的 XRD 图 | 第44-45页 |
·材料的 SEM、HR-TEM 图及 EDX 谱 | 第45-46页 |
·solFe-H_2Ti_4O_9的 TG-DTA 曲线 | 第46页 |
·材料的 FT-IR 谱 | 第46-47页 |
·材料的 N2吸附-脱附曲线 | 第47-49页 |
·材料的 UV-Vis DRS 谱 | 第49页 |
·材料的 XPS 谱 | 第49-51页 |
·材料的可见光光催化活性 | 第51-53页 |
·结论 | 第53-54页 |
第5章 氧化镍敏化 SnO_2-钛酸复合材料的制备与表征 | 第54-67页 |
·实验部分 | 第54-55页 |
·主要试剂和仪器 | 第54页 |
·催化剂的制备 | 第54-55页 |
·材料的测试与表征 | 第55页 |
·材料的光催化性能评价 | 第55页 |
·结果与讨论 | 第55-66页 |
·材料的 XRD 图 | 第55-56页 |
·NiO/SnO_2-H_2Ti_4O_9前驱物的 TG-DTA 曲线 | 第56-57页 |
·材料的 FT-IR 谱 | 第57-58页 |
·材料的 SEM、HR-TEM 图和 EDX 谱 | 第58-59页 |
·材料的 N_2吸附-脱附曲线 | 第59-60页 |
·材料的 UV-Vis DSR 谱 | 第60-61页 |
·材料的 XPS 谱 | 第61-63页 |
·材料的可见光催化活性 | 第63-66页 |
·结论 | 第66-67页 |
第6章 总结 | 第67-69页 |
·本文工作的主要结论 | 第67-68页 |
·论文的主要创新点和贡献 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-79页 |
致谢 | 第79-81页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第81页 |