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In-N共掺p型ZnO薄膜制备及稳定性研究 |
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| 论文目录 |
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| 中文摘要 | 第1-6页 | | 英文摘要 | 第6-10页 | | 1 研究背景及意义 | 第10-24页 | | ·引言 | 第10-11页 | | ·ZNO薄膜的基本性质 | 第11-12页 | | ·ZNO的结构形态 | 第12-14页 | | ·ZnO体单晶 | 第12页 | | ·ZnO薄膜 | 第12-14页 | | ·ZnO纳米结构 | 第14页 | | ·ZNO薄膜的性能 | 第14-15页 | | ·ZnO薄膜的光学性能 | 第14-15页 | | ·ZnO薄膜的电学性能 | 第15页 | | ·ZNO薄膜的本征缺陷 | 第15-16页 | | ·P型ZNO薄膜的研究进展 | 第16-19页 | | ·IA族掺杂 | 第16-17页 | | ·ⅤA族掺杂 | 第17-19页 | | ·施主-受主共掺杂p型ZnO | 第19页 | | ·P型ZNO薄膜稳定性的研究进展 | 第19-21页 | | ·ZNO薄膜的应用 | 第21-22页 | | ·本文的立题依据、研究内容及创新点 | 第22-24页 | | ·立题依据 | 第22页 | | ·研究内容 | 第22-23页 | | ·本文的创新点 | 第23-24页 | | 2 实验原理、实验过程及表征手段 | 第24-30页 | | ·实验原理 | 第24-26页 | | ·射频磁控溅射的基本原理 | 第24-25页 | | ·离子注入原理 | 第25页 | | ·退火原理 | 第25-26页 | | ·第一性原理计算 | 第26页 | | ·实验过程 | 第26-28页 | | ·实验的材料 | 第26-27页 | | ·衬底的准备和清洗 | 第27页 | | ·薄膜的制备流程 | 第27页 | | ·薄膜制备的基本参数 | 第27-28页 | | ·小结 | 第28页 | | ·薄膜的性能测试手段 | 第28-29页 | | ·薄膜厚度测试 | 第28页 | | ·HALL测试 | 第28页 | | ·XRD测试 | 第28-29页 | | ·AFM测试 | 第29页 | | ·双光束紫外-可见分光光度计测试 | 第29页 | | ·拉曼散色光谱测试 | 第29页 | | ·小结 | 第29-30页 | | 3 退火温度对ZNO:IN薄膜特性的影响 | 第30-39页 | | ·光学性质 | 第30-32页 | | ·透射谱 | 第30页 | | ·吸收谱 | 第30-32页 | | ·结构性质 | 第32-37页 | | ·XRD | 第32-33页 | | ·AFM | 第33-35页 | | ·Raman | 第35-37页 | | ·电学性质 | 第37页 | | ·第一性原理计算 | 第37-38页 | | ·本章小结 | 第38-39页 | | 4 IN-N共掺P型ZNO薄膜稳定性研究 | 第39-45页 | | ·HALL跟踪测试 | 第40-41页 | | ·吸收光谱 | 第41-42页 | | ·结构性质 | 第42-43页 | | ·XRD | 第42-43页 | | ·Raman | 第43页 | | ·小结 | 第43-45页 | | 5 总结和展望 | 第45-46页 | | 参考文献 | 第46-51页 | | 附录A | 第51-52页 | | 致谢 | 第5页 |
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论文编号BS2352911，这篇论文共52页
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