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基于ZnO的异质结的组建及其光电性能研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第1-5页 | Abstract | 第5-9页 | 第1章 绪论 | 第9-25页 | ·引言 | 第9页 | ·ZnO 的结构 | 第9-11页 | ·ZnO 的晶体结构 | 第9-11页 | ·ZnO 的电子能带结构 | 第11页 | ·ZnO 的光、电性质 | 第11-13页 | ·禁带宽 | 第11-12页 | ·可见光区透过率高 | 第12页 | ·紫外发射强 | 第12页 | ·导电性好 | 第12页 | ·光电性能好 | 第12-13页 | ·表面光电压技术 | 第13-16页 | ·表面光电压谱 | 第13页 | ·表面光电压谱仪的构造 | 第13-14页 | ·表面光电压的产生机理 | 第14-16页 | ·本论文的研究内容 | 第16-17页 | ·本论文的研究意义 | 第17-19页 | 参考文献 | 第19-25页 | 第2章 ZnO 和NiO 薄膜的制备及表征 | 第25-41页 | ·激光分子束外延技术简介 | 第25-26页 | ·激光分子束外延的基本结构 | 第25-26页 | ·ZnO、NiO 陶瓷靶材的制备 | 第26-28页 | ·ZnO、NiO 陶瓷靶材的制备流程 | 第26-27页 | ·ZnO、NiO 陶瓷靶材的XRD 表征 | 第27-28页 | ·L-MBE 技术制备ZnO 薄膜 | 第28-34页 | ·Si 衬底上生长ZnO 薄膜 | 第29-32页 | ·ZnO 薄膜的生长 | 第29-30页 | ·Si 衬底上ZnO 薄膜的XRD 图 | 第30-31页 | ·Si 衬底上ZnO 薄膜的Raman 谱分析 | 第31页 | ·Si 衬底上ZnO 薄膜的光致发光谱 | 第31-32页 | ·石英衬底上生长ZnO 薄膜 | 第32-34页 | ·石英衬底上ZnO 薄膜的XRD 图 | 第32-33页 | ·石英衬底上ZnO 薄膜的透射谱 | 第33-34页 | ·L-MBE 技术制备NiO 薄膜 | 第34-37页 | ·Si 衬底上生长NiO 薄膜 | 第34-35页 | ·Si 衬底上生长NiO 薄膜的XRD 图 | 第34-35页 | ·石英衬底上生长NiO 薄膜 | 第35-37页 | ·石英衬底上生长NiO 薄膜的XRD 图 | 第35-36页 | ·石英衬底上生长NiO 薄膜的透射谱 | 第36-37页 | ·本章小结 | 第37-38页 | 参考文献 | 第38-41页 | 第3章 ZnO/NiO p-n 异质结的组建及其光电性质研究 | 第41-53页 | ·引言 | 第41-42页 | ·实验和测试 | 第42-43页 | ·样品的制备 | 第42页 | ·样品的测试 | 第42-43页 | ·结果和讨论 | 第43-49页 | ·结构和形貌 | 第43-44页 | ·ZnO/NiO 异质结的整流特性 | 第44-46页 | ·透射谱分析 | 第46页 | ·表面光电压谱分析 | 第46-49页 | ·本章小结 | 第49-50页 | 参考文献 | 第50-53页 | 第4章 N719 染料和ZnO 薄膜之间的能量和电荷转移 | 第53-69页 | ·引言 | 第53-54页 | ·实验和测试 | 第54-55页 | ·样品的制备 | 第54页 | ·样品的测试 | 第54-55页 | ·结果和讨论 | 第55-63页 | ·结构和形貌 | 第55-56页 | ·紫外—可见吸收光谱 | 第56-59页 | ·表面光电压谱 | 第59-60页 | ·光致发光谱 | 第60-62页 | ·拉曼谱分析 | 第62-63页 | ·本章小结 | 第63-65页 | 参考文献 | 第65-69页 | 攻读硕士期间完成的论文 | 第69-70页 | 致谢 | 第70页 |
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