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深亚微米CMOS工艺下模拟集成电路的数字增强技术研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-6页 | | ABSTRACT | 第6-8页 | | 目录 | 第8-11页 | | 第1章 绪论 | 第11-23页 | | ·CMOS工艺简介及演进状况 | 第11-14页 | | ·工艺演进对电路的影响 | 第14-17页 | | ·数字电路和模拟/射频电路之间的联系 | 第17-19页 | | ·一种解决方案:数字增强技术 | 第19页 | | ·本文的组织结构 | 第19-20页 | | 参考文献 | 第20-23页 | | 第2章 数字增强技术的设计方法 | 第23-37页 | | ·技术理念 | 第23-27页 | | ·设计方法学 | 第27-35页 | | ·模拟电路非线性建模 | 第28-31页 | | ·数字域补偿非线性的方法 | 第31-32页 | | ·非线性参数的自适应及跟踪 | 第32-34页 | | ·模拟-数字电路协同设计/仿真 | 第34-35页 | | 参考文献 | 第35-37页 | | 第3章 射频功率放大器的数字预失真技术 | 第37-99页 | | ·射频收发机和功率放大器介绍 | 第37-43页 | | ·射频收发机 | 第37-38页 | | ·功率放大器及设计折衷 | 第38-42页 | | ·射频发射机的线性度指标 | 第42-43页 | | ·射频功率放大器非线性行为建模 | 第43-49页 | | ·无记忆的功率放大器非线性模型 | 第43-47页 | | ·带记忆效应的非线性模型 | 第47-49页 | | ·功放线性化技术回顾 | 第49-57页 | | ·前馈技术 | 第49-50页 | | ·正交反馈技术 | 第50-51页 | | ·包络移除-恢复技术与包络跟踪技术 | 第51-53页 | | ·使用非线性器件的线性放大技术 | 第53-54页 | | ·Doherty功率放大器 | 第54-55页 | | ·数字预失真技术 | 第55-57页 | | ·一种带延时补偿的快速自适应的数字预失真算法 | 第57-77页 | | ·数字预失真技术回顾 | 第58-60页 | | ·基于多层查找表的预失真算法 | 第60-64页 | | ·自适应环路延时补偿算法 | 第64-71页 | | ·仿真结果 | 第71-77页 | | ·利用数字增强技术的射频发射机设计考虑 | 第77-88页 | | ·残留失真问题 | 第78-79页 | | ·发射机和反馈接收 | 第79-80页 | | ·其他非理想性及处理 | 第80-83页 | | ·基于2-维多层查找表的发射机预失真器 | 第83-88页 | | ·数字增强的发射机原型设计及测试结果 | 第88-94页 | | ·发射机原型设计 | 第88-89页 | | ·测试结果 | 第89-94页 | | 参考文献 | 第94-99页 | | 第4章 流水线ADC的数字校正技术 | 第99-141页 | | ·流水线ADC介绍 | 第99-105页 | | ·流水线ADC非线性建模 | 第105-112页 | | ·CMOS工艺演进对流水线ADC的影响 | 第112-113页 | | ·ADC校正技术回顾 | 第113-125页 | | ·准后台校正技术 | 第114-115页 | | ·参考ADC校正技术 | 第115-116页 | | ·双通道互校正技术 | 第116-118页 | | ·利用伪随机噪声的校正技术 | 第118-122页 | | ·基于信号统计特征的校正技术 | 第122页 | | ·基于频谱扩展的校正技术 | 第122-123页 | | ·系统嵌入式校正技术 | 第123-125页 | | ·一种基于虚拟通道的ADC后台校正技术 | 第125-130页 | | ·虚拟通道方法介绍 | 第125-127页 | | ·数字预测器 | 第127-128页 | | ·在流水线ADC中的应用 | 第128-130页 | | ·与其他校正方法的比较 | 第130页 | | ·仿真实验结果 | 第130-137页 | | ·行为级仿真结果 | 第130-134页 | | ·电路级仿真的初步结果 | 第134-137页 | | 参考文献 | 第137-141页 | | 第5章 结论与未来展望 | 第141-145页 | | 参考文献 | 第143-145页 | | 附录A | 第145-147页 | | 附录B | 第147-149页 | | 致谢 | 第149-151页 | | 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第151-153页 |
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论文编号BS511963，这篇论文共153页
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