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金属/介质核壳结构界面对抑制荧光淬灭与荧光增强的研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第4-6页 | Abstract | 第6-10页 | 第一章绪论 | 第10-25页 | 1.1局域表面等离激元简述 | 第10-13页 | 1.2金属等离激元对分子的荧光增强 | 第13-17页 | 1.2.1发光体自发辐射速率的调制 | 第14页 | 1.2.2金属调制分子荧光辐射的基本原理 | 第14-17页 | 1.3金属等离激元模式与分子的强耦合 | 第17-19页 | 1.4本文研究的主要内容 | 第19-21页 | 参考文献 | 第21-25页 | 第二章金属/介质核壳结构的实验制备 | 第25-36页 | 2.1引言 | 第25页 | 2.2制备过程中的微纳加工技术简介 | 第25-27页 | 2.2.1镀膜工艺 | 第25-26页 | 2.2.2胶体微球自组装 | 第26-27页 | 2.3利用超薄AAO模板制备金属纳米圆盘 | 第27-31页 | 2.4金纳米颗粒的制备 | 第31-33页 | 2.4.1PS微球制备金半球颗粒 | 第31-32页 | 2.4.2不规则金纳米颗粒的制备 | 第32页 | 2.4.3ALD生长氧化铝介质包裹层 | 第32-33页 | 2.5本章小结 | 第33-34页 | 参考文献 | 第34-36页 | 第三章金属/介质界面对分子的荧光增强 | 第36-51页 | 3.1引言 | 第36页 | 3.2单分子荧光的理论计算 | 第36-42页 | 3.2.1COMSOL中单分子荧光计算方法 | 第36-39页 | 3.2.2量子方程计算单分子荧光 | 第39-42页 | 3.3实验观测与理论分析 | 第42-49页 | 3.3.1样品的制备与线性谱表征 | 第42-46页 | 3.3.2样品荧光增强的实验观测 | 第46-49页 | 3.4本章小结 | 第49-50页 | 参考文献 | 第50-51页 | 第四章金属/介质界面对分子耦合模式的研究 | 第51-61页 | 4.1引言 | 第51-53页 | 4.2金属与分子耦合模式的调控 | 第53-57页 | 4.3调控金属耦合模式对分子荧光淬灭的抑制 | 第57-59页 | 4.4本章小结 | 第59-60页 | 参考文献 | 第60-61页 | 第五章总结与展望 | 第61-62页 | 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第62-63页 | 致谢 | 第63-65页 |
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