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半导体环形激光器的研究
 
     论文目录
 
摘要第1-4页
ABSTRACT第4-8页
第一章 引言第8-17页
   ·研究目的和研究动机第8页
   ·全光双稳态的研究历史与进展第8-9页
   ·半导体环形激光器的工作原理第9-11页
   ·半导体环形激光器的应用第11-13页
     ·光存储——双稳态特性第11-12页
     ·光逻辑——单稳态特性第12-13页
   ·半导体环形激光器的研究历史第13-14页
   ·本课题的研究背景和本论文的主要内容第14-17页
第二章 半导体环形激光器的材料第17-27页
   ·半导体激光器材料的三个主要发展阶段第17-18页
   ·半导体量子阱激光器材料的基本原理第18-20页
   ·半导体量子阱激光器材料的分别限制结构第20页
   ·半导体量子阱激光器材料的四元系材料结构第20-22页
   ·半导体量子阱激光器材料的应变量子阱结构第22-24页
   ·半导体环形激光器的材料结构第24-27页
第三章 半导体环形激光器的器件设计第27-42页
   ·器件设计的总体考虑第27-28页
   ·环形波导的几何尺寸第28-29页
   ·脊形波导第29-35页
     ·浅刻蚀波导的设计第30-32页
     ·深刻蚀波导的设计第32-35页
   ·波导的耦合第35-38页
   ·输出波导(bus 波导)第38-39页
   ·环形激光器的电极第39-40页
   ·实际设计的版图第40-42页
第四章 半导体环形激光器的制作工艺第42-56页
   ·工艺流程第42页
   ·实验芯片的准备第42-44页
   ·隔离槽的制作第44-46页
   ·波导的制作第46-53页
     ·Si0_2刻蚀掩膜第47-49页
     ·干法刻蚀脊形波导第49-53页
   ·平坦化和金属电极的制作第53-56页
     ·平坦化工艺第53-54页
     ·金属电极的制作第54-56页
第五章 半导体环形激光器的测试与分析第56-66页
   ·浅刻蚀环形激光器的测试与分析第57-62页
   ·深刻蚀环形激光器的测试与分析第62-66页
第六章 结论与下一步的研究工作第66-69页
   ·结论第66-67页
   ·下一步的研究工作第67-69页
参考文献第69-75页
发表论文和参加科研情况说明第75-76页
致谢第76页

 
 
论文编号BS2516,这篇论文共76
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