| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 铁电材料简介 | 第10-14页 |
| 1.2.1 铋基氧化物BiFeO_3材料概述 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铋基氧化物BiVO_4材料概述 | 第11-13页 |
| 1.2.3 非金属氧化物LaNiO_3材料概述 | 第13-14页 |
| 1.3 铁电光伏效应 | 第14-16页 |
| 1.4 研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 铁电薄膜的制备及性能表征 | 第17-28页 |
| 2.1 铁电薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| 2.1.1 BiFeO_3薄膜 | 第18-19页 |
| 2.1.2 BiVO_4薄膜 | 第19-20页 |
| 2.1.3 LaNiO_3/BiFeO_3薄膜 | 第20-21页 |
| 2.2 铁电薄膜的结构表征 | 第21-23页 |
| 2.2.1 薄膜X射线衍射图谱表征 | 第22页 |
| 2.2.2 薄膜的表面和截面形貌表征 | 第22-23页 |
| 2.3 铁电薄膜光学性质表征 | 第23-26页 |
| 2.3.1 薄膜的光学带隙表征 | 第23-24页 |
| 2.3.2 薄膜的光谱响应表征 | 第24-25页 |
| 2.3.3 薄膜的光电行为表征 | 第25-26页 |
| 2.4 铁电薄膜电学性质表征 | 第26-28页 |
| 2.4.1 薄膜多铁特性表征 | 第26-27页 |
| 2.4.2 薄膜多介电特性表征 | 第27-28页 |
| 第三章 铋基氧化物复合薄膜的铁电光伏效应 | 第28-42页 |
| 3.1 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.2 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的X射线衍射图谱分析 | 第29-30页 |
| 3.3 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的铁电和漏电特性分析 | 第30-34页 |
| 3.4 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的介电特性分析 | 第34-36页 |
| 3.5 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的光学带隙特性的研究 | 第36-38页 |
| 3.6 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的光伏的谱响应 | 第38-39页 |
| 3.7 BiFeO_3/BiVO_4复合薄膜的光电行为研究 | 第39-42页 |
| 第四章 LaNiO_3薄膜缓冲层对BiFeO_3薄膜性能的影响 | 第42-47页 |
| 4.1 LaNiO_3底电极上的BiFeO_3薄膜的X射线衍射图谱分析 | 第42-44页 |
| 4.2 LaNiO_3底电极上的BiFeO_3薄膜的铁电特性分析 | 第44-45页 |
| 4.3 LaNiO_3底电极上的BiFeO_3薄膜的漏电特性分析 | 第45-47页 |
| 第五章 总结 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 作者攻读硕士学位期间发表和完成的论文目录 | 第56页 |
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