摘要 | 第5-8页 |
ABSTRACT | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第15-35页 |
1.1 汞的毒性及其主要中毒途径 | 第15-16页 |
1.1.1 汞的毒性 | 第15页 |
1.1.2 汞的主要中毒途径 | 第15-16页 |
1.2 汞的主要来源 | 第16-18页 |
1.2.1 自然排放源 | 第16-17页 |
1.2.2 人为排放源 | 第17-18页 |
1.3 汞污染的现状 | 第18-25页 |
1.3.1 国际的汞污染现状 | 第18-21页 |
1.3.2 中国的汞污染现状 | 第21-25页 |
1.4 汞污染的主要控制技术及研究现状 | 第25-30页 |
1.4.1 燃烧前脱汞技术 | 第25页 |
1.4.2 燃烧中脱汞技术 | 第25-26页 |
1.4.3 燃烧后脱汞技术 | 第26-30页 |
1.5 锰氧化物的研究进展 | 第30-32页 |
1.6 选题的目的、意义及研究的主要内容 | 第32-35页 |
1.6.1 选题的目的及意义 | 第32-33页 |
1.6.2 研究的主要内容 | 第33-34页 |
1.6.3 技术路线的建立 | 第34-35页 |
第二章 实验部分 | 第35-40页 |
2.1 实验仪器及所用试剂 | 第35-37页 |
2.1.1 实验用到的小型仪器 | 第35-36页 |
2.1.2 实验用到的主要化学试剂、药品 | 第36-37页 |
2.2 材料的制备方法 | 第37页 |
2.3 材料的主要表征手段 | 第37-40页 |
2.3.1 粉末 X-射线衍射(PXRD) | 第37页 |
2.3.2 透射电子显微镜(TEM) | 第37页 |
2.3.3 比表面积测试 (BET) | 第37页 |
2.3.4 X-射线光电子能谱(XPS) | 第37页 |
2.3.5 氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第37-38页 |
2.3.6 氨气程序升温脱附(NH3-TPD) | 第38页 |
2.3.7 漫反射傅里叶红外光谱(DRIFTs) | 第38页 |
2.3.8 电化学分析 | 第38页 |
2.3.9 离子色谱分析 | 第38页 |
2.3.10 汞吸附能力评价体系 | 第38-40页 |
第三章 单组分锰氧化物的零价汞吸附性能研究 | 第40-53页 |
3.1 吸附剂的制备及吸附性能评价实验 | 第40-41页 |
3.1.1 单组分锰氧化物吸附剂的制备 | 第40-41页 |
3.1.2 吸附剂对零价汞吸附性能的评价实验 | 第41页 |
3.2 材料的表征 | 第41-48页 |
3.2.1 吸附剂的晶体结构分析-PXRD 表征 | 第41-42页 |
3.2.2 吸附剂的形貌分析-TEM | 第42-44页 |
3.2.3 吸附剂的表面积分析-N2吸附脱附表征 | 第44-45页 |
3.2.4 吸附剂的氧化能力分析(H2-TPR) | 第45-46页 |
3.2.5 吸附剂的表面元素形态分析-XPS | 第46-48页 |
3.3 吸附剂的汞吸附能力评价 | 第48-52页 |
3.3.1 温度对吸附剂吸附容量的影响 | 第48-49页 |
3.3.2 SO2及空速对吸附剂捕汞性能的影响 | 第49-50页 |
3.3.3 材料的脱附性能初探 | 第50-51页 |
3.3.4 吸附剂的循环使用性能 | 第51-52页 |
本章小结 | 第52-53页 |
第四章 Zr_(1-x)Mn_xO_y的合成表征及其对零价汞的吸附捕集性能研究 | 第53-71页 |
4.1 吸附剂的制备及吸附性能评价实验 | 第53-54页 |
4.1.1 吸附剂的制备 | 第53-54页 |
4.1.2 吸附剂的零价汞吸附性能评价实验 | 第54页 |
4.2 吸附剂的表征 | 第54-62页 |
4.2.1 吸附剂的晶体结构分析-PXRD | 第54-56页 |
4.2.2 吸附剂的形貌分析-TEM | 第56-57页 |
4.2.3 吸附剂的表面积分析-N2吸脱附表征 | 第57-58页 |
4.2.4 吸附剂的氧化性能分析-氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第58-59页 |
4.2.5 吸附剂的元素形态分析(XPS) | 第59-62页 |
4.3 吸附剂的汞吸附性能评价 | 第62-70页 |
4.3.1 Zr 掺杂及温度对吸附剂捕汞性能的影响 | 第62-63页 |
4.3.2 烟气中的 SO2及 O2对吸附剂捕汞性能的影响 | 第63-64页 |
4.3.3 空速对吸附剂脱汞效率的影响 | 第64-65页 |
4.3.4 吸附剂的脱附性能研究 | 第65-66页 |
4.3.5 吸附剂的再生性能研究 | 第66-67页 |
4.3.6 SO2对吸附剂捕汞性能的影响机制探讨 | 第67-68页 |
4.3.7 离子色谱分析 | 第68-69页 |
4.3.8 零价汞在吸附剂表面的作用机制分析 | 第69-70页 |
本章小结 | 第70-71页 |
第五章 Ce_(1-x)Mn_xO_y的合成表征及其对零价汞的吸附捕集性能研究 | 第71-92页 |
5.1 吸附剂的制备及汞吸附性能评价实验 | 第71-72页 |
5.1.1 单组分及复合金属氧化物的制备 | 第71-72页 |
5.1.2 吸附剂对零价汞吸附性能的评价 | 第72页 |
5.2 吸附剂的表征 | 第72-84页 |
5.2.1 吸附剂的晶体结构分析-PXRD | 第72-74页 |
5.2.2 吸附剂的形貌分析-TEM | 第74-76页 |
5.2.3 吸附剂的表面积分析-N2吸脱附表征 | 第76-77页 |
5.2.4 吸附剂的氧化性能分析-氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第77-78页 |
5.2.5 吸附剂的表面酸性分析-氨气程序升温脱附(NH3-TPD) | 第78-80页 |
5.2.6 吸附剂的表面元素形态分析(XPS) | 第80-84页 |
5.3 吸附剂的吸附及再生性能评价 | 第84-90页 |
5.3.1 Ce 掺杂及温度对吸附剂吸附性能的影响 | 第84-85页 |
5.3.2 烟气组分对吸附剂捕汞性能的影响 | 第85-86页 |
5.3.3 离子色谱分析 | 第86-87页 |
5.3.4 吸附剂的再生性能评价 | 第87-88页 |
5.3.5 吸附剂的重复使用性能评价 | 第88-89页 |
5.3.6 汞在吸附剂表面的吸附氧化机制探讨 | 第89-90页 |
本章小结 | 第90-92页 |
第六章 Sn_(1-x)Mn_xO_y的制备表征及其对零价汞的吸附捕集性能研究 | 第92-110页 |
6.1 吸附剂的制备及吸附性能评估实验 | 第92-93页 |
6.1.1 锡锰复合金属氧化物的制备 | 第92-93页 |
6.1.2 吸附剂对零价汞吸附性能的评估实验 | 第93页 |
6.2 吸附剂的表征 | 第93-102页 |
6.2.1 吸附剂的结构分析-PXRD | 第93-94页 |
6.2.2 吸附剂的形貌分析-TEM | 第94-96页 |
6.2.3 吸附剂的表面积分析-N2吸脱附表征 | 第96-97页 |
6.2.4 吸附剂的氧化性能分析-氢气程序升温还原(H2-TPR) | 第97-98页 |
6.2.5 吸附剂的表面酸性分析-氨气程序升温脱附(NH3-TPD) | 第98-99页 |
6.2.6 吸附剂的表面元素形态分析-XPS | 第99-102页 |
6.3 吸附剂的汞吸附能力评估 | 第102-108页 |
6.3.1 Sn 掺杂及温度对材料汞吸附容量的影响 | 第102-103页 |
6.3.2 SO2对锡锰复合氧化物吸附性能的影响 | 第103-104页 |
6.3.3 SO2的影响机制探讨-DRIFTs 实验 | 第104-105页 |
6.3.4 离子色谱分析 | 第105-106页 |
6.3.5 吸附剂的脱附性能评价 | 第106-107页 |
6.3.6 吸附剂的循环使用性能评估 | 第107-108页 |
本章小结 | 第108-110页 |
第七章 汞在锰基复合氧化物表面的脱附及脱附活化能的计算 | 第110-120页 |
7.1 脱附活化能计算模型理论及实验方法 | 第110-112页 |
7.1.1 脱附活化能计算模型的建立 | 第110-112页 |
7.1.2 实验方法 | 第112页 |
7.2 实验结果与讨论 | 第112-119页 |
7.2.1 汞从单组分锰氧化物表面的脱附 | 第112-114页 |
7.2.2 汞从锆锰复合氧化物表面的脱附 | 第114-115页 |
7.2.3 汞从铈锰复合氧化物表面的脱附 | 第115-116页 |
7.2.4 汞从锡锰复合氧化物表面的脱附 | 第116-119页 |
7.3 本章小结 | 第119-120页 |
第八章 全文总结与展望 | 第120-124页 |
8.1 结论 | 第120-122页 |
8.2 创新点 | 第122页 |
8.3 展望 | 第122-124页 |
附录 | 第124-125页 |
参考文献 | 第125-136页 |
致谢 | 第136-137页 |
攻读博士学位期间已发表或待发表的 SCI 论文及所获奖励 | 第137-138页 |