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新型光敏感聚硫醚的设计、合成及应用 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-5页 | | Abstract | 第5-6页 | | 第一章 绪论 | 第10-24页 | | 1.1 文献综述 | 第10-21页 | | 1.1.1 课题研究背景和目的 | 第10-11页 | | 1.1.2 敏感型高分子材料 | 第11-17页 | | 1.1.2.1 pH敏感高分子材料 | 第11-12页 | | 1.1.2.2 温敏型高分子材料 | 第12-13页 | | 1.1.2.3 双重刺激响应的高分子材料 | 第13页 | | 1.1.2.4 光敏感高分子材料 | 第13-17页 | | 1.1.2.4.1 邻硝基苯衍生物 | 第16-17页 | | 1.1.3 巯基-迈克尔加成反应和巯基-双键反应 | 第17-21页 | | 1.2 本论文的研究意义与研究内容 | 第21-24页 | | 第二章 光敏感聚硫醚材料的合成与表征 | 第24-52页 | | 2.1 引言 | 第24-25页 | | 2.2 光敏感单体的合成与表征 | 第25-51页 | | 2.2.1 实验部分 | 第25-30页 | | 2.2.1.1 实验药品 | 第25-26页 | | 2.2.1.2 主要实验仪器 | 第26页 | | 2.2.1.3 表征方法 | 第26-27页 | | 2.2.1.4 制备路线 | 第27-28页 | | 2.2.1.5 实验步骤 | 第28-30页 | | 2.2.2 单体结果与讨论 | 第30-37页 | | 2.2.3 光敏感两嵌段聚合物的合成与表征 | 第37-46页 | | 2.2.3.1 通用聚合与纯化方法 | 第37页 | | 2.2.3.2 合成步骤 | 第37-39页 | | 2.2.3.2.1 反应路线 | 第38页 | | 2.2.3.2.2 降解机理 | 第38页 | | 2.2.3.2.3 聚合物合成方法与结构 | 第38-39页 | | 2.2.3.3 结果与讨论 | 第39-46页 | | 2.2.4 光敏感三嵌段聚合物的合成与表征 | 第46-49页 | | 2.2.4.1 实验方法 | 第46页 | | 2.2.4.2 实验结果与讨论 | 第46-49页 | | 2.2.5 降解结果与讨论 | 第49-51页 | | 2.3 本章小结 | 第51-52页 | | 第三章 pH/UV双重刺激响应聚合物的合成与表征 | 第52-62页 | | 3.1 引言 | 第52页 | | 3.2 单体的合成与表征 | 第52-59页 | | 3.2.1 实验药品 | 第52-53页 | | 3.2.2 主要实验仪器 | 第53页 | | 3.2.3 路线 | 第53-54页 | | 3.2.3.1 合成路线 | 第53-54页 | | 3.2.3.2 降解机理 | 第54页 | | 3.2.4 实验步骤 | 第54-56页 | | 3.2.5 实验结果与分析 | 第56-59页 | | 3.3 聚合物的合成与表征 | 第59-61页 | | 3.3.1 实验路线 | 第59页 | | 3.3.2 实验步骤 | 第59页 | | 3.3.3 实验结果与分析 | 第59-61页 | | 3.4 降解结果与讨论 | 第61页 | | 3.5 本章小结 | 第61-62页 | | 第四章 光敏型nanoparticle的合成 | 第62-74页 | | 4.1 引言 | 第62-63页 | | 4.2 PVA与聚合物组装 | 第63-66页 | | 4.2.1 实验部分 | 第63页 | | 4.2.2 主要实验仪器 | 第63页 | | 4.2.3 实验过程 | 第63-64页 | | 4.2.4 实验结果与分析 | 第64-66页 | | 4.3 两亲性聚硫醚的合成 | 第66-72页 | | 4.3.1 实验部分 | 第66-68页 | | 4.3.1.1 合成路线 | 第66-67页 | | 4.3.1.2 实验步骤 | 第67-68页 | | 4.3.1.2.1 聚合物的合成 | 第67页 | | 4.3.1.2.2 聚合物的纯化 | 第67页 | | 4.3.1.2.3 胶束的合成 | 第67页 | | 4.3.1.2.4 封装尼罗红 | 第67-68页 | | 4.3.1.2.5 荧光光谱检测 | 第68页 | | 4.3.1.2.6 紫外吸收光谱检测 | 第68页 | | 4.3.2 实验结果与分析 | 第68-72页 | | 4.4 本章小结 | 第72-74页 | | 参考文献 | 第74-82页 | | 致谢 | 第82-84页 | | 硕士期间发表文章 | 第84页 |
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论文编号BS3003718，这篇论文共84页
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