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基于改进Ni-nSiO2纳米复合电沉积法的钢基超疏水表面制备工艺研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第4-5页 | Abstract | 第5-6页 | 1 绪论 | 第9-25页 | 1.1 选题的背景和意义 | 第9-11页 | 1.2 超疏水国内外研究现状及主要问题 | 第11-22页 | 1.2.1 超疏水国内外研究现状 | 第11-21页 | 1.2.2 船舶海洋工程领域钢基超疏水表面制备技术难点 | 第21-22页 | 1.3 论文的研究思路及研究方法 | 第22-25页 | 1.3.1 论文的研究思路 | 第23页 | 1.3.2 论文的研究方法 | 第23-25页 | 2 超疏水和复合纳米电沉积技术的理论基础 | 第25-32页 | 2.1 超疏水表面相关理论 | 第25-29页 | 2.1.1 Young's模型 | 第25-26页 | 2.1.2 Wenzel模型 | 第26-27页 | 2.1.3 Cassie-Baxter模型 | 第27-29页 | 2.1.4 滚动角 | 第29页 | 2.2 纳米复合电沉积法的理论基础 | 第29-31页 | 2.3 本章小结 | 第31-32页 | 3 Ni-SiO_2纳米复合电沉积法制备超疏水镀层的改进 | 第32-44页 | 3.1 传统复合电沉积设备的改进 | 第32-37页 | 3.2 镀层表面均匀性问题 | 第37-41页 | 3.2.1 电场线分布不均匀的问题 | 第37-39页 | 3.2.2 纳米微粒分布不均匀的问题 | 第39-41页 | 3.3 复合电沉积液选择与分析 | 第41-42页 | 3.4 基材表面粗糙度要求 | 第42-43页 | 3.5 本章小结 | 第43-44页 | 4 Ni-SiO_2纳米复合电沉积法制备钢基超疏水表面工艺研究 | 第44-63页 | 4.1 试验过程 | 第44-48页 | 4.1.1 试验材料及设备 | 第44-46页 | 4.1.2 微纳米双重结构的构建过程 | 第46-47页 | 4.1.3 低表面能修饰工艺 | 第47-48页 | 4.2 正交试验设计 | 第48-52页 | 4.2.1 因素水平的确定 | 第48页 | 4.2.2 正交试验表格的选用 | 第48-49页 | 4.2.3 正交试验结果及分析 | 第49-52页 | 4.3 Ni-SiO_2纳米复合电沉积法制备超疏水镀层配方研究 | 第52-55页 | 4.4 Ni-SiO_2纳米复合电沉积法制备超疏水表面工艺参数研究 | 第55-62页 | 4.4.1 电流密度对表面超疏水性能的影响 | 第55-56页 | 4.4.2 阳极速度对表面超疏水性能的影响 | 第56-58页 | 4.4.3 沉积时间对表面超疏水性能的影响 | 第58-60页 | 4.4.4 工艺情况小结 | 第60-62页 | 4.5 本章小结 | 第62-63页 | 5 镀层超疏水原因及所制备镀层性能分析 | 第63-81页 | 5.1 镀层超疏水原因分析 | 第63-69页 | 5.1.1 镀层表面粗糙度 | 第63-66页 | 5.1.2 镀层表面形貌 | 第66-69页 | 5.2 镀层性能分析 | 第69-77页 | 5.2.1 镀层超疏水性能分析 | 第69-72页 | 5.2.2 镀层的自清洁能力 | 第72-75页 | 5.2.3 镀层的机械稳定性分析 | 第75-77页 | 5.3 镀层的耐腐蚀性分析 | 第77-79页 | 5.4 本章小结 | 第79-81页 | 6 结论与展望 | 第81-83页 | 6.1 结论 | 第81页 | 6.2 论文的创新点 | 第81-82页 | 6.3 展望 | 第82-83页 | 参考文献 | 第83-86页 | 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第86-87页 | 致谢 | 第87-88页 |
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