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基于介孔材料HMS的分子印迹材料制备及其吸附性能 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-5页 | | Abstract | 第5-10页 | | 第1章 绪论 | 第10-23页 | | ·课题的目的和意义 | 第10-11页 | | ·分子印迹技术 | 第11-15页 | | ·分子印迹技术的基本原理 | 第11-13页 | | ·分子印迹聚合物制备方法 | 第13-15页 | | ·分子印迹技术的应用 | 第15页 | | ·硅基分子印迹材料 | 第15-19页 | | ·硅基分子印迹材料的制备方法 | 第15-17页 | | ·基于硅材料的印迹聚合物的应用 | 第17-18页 | | ·硅基分子印迹材料中的主要问题 | 第18-19页 | | ·介孔材料的特点、合成及应用 | 第19-21页 | | ·介孔材料的特点及类型 | 第19-20页 | | ·介孔材料合成机理 | 第20页 | | ·介孔材料的改性 | 第20-21页 | | ·介孔材料的应用 | 第21页 | | ·本课题主要研究内容 | 第21-23页 | | 第2章 实验材料及方法 | 第23-28页 | | ·实验所用试剂及仪器 | 第23-24页 | | ·试剂 | 第23页 | | ·仪器设备 | 第23-24页 | | ·分子印迹材料的合成方法 | 第24页 | | ·样品结构测定 | 第24-26页 | | ·X 射线衍射测试（XRD） | 第24页 | | ·N2 吸附-脱附等温曲线 | 第24-25页 | | ·红外光谱测试（FT-IR） | 第25页 | | ·扫描电镜（SEM） | 第25-26页 | | ·吸附性能测试 | 第26-28页 | | ·吸附动力学曲线的测定及测试手段 | 第26页 | | ·吸附等温线的测定 | 第26页 | | ·竞争吸附实验及测试手段 | 第26-27页 | | ·重复利用率实验 | 第27-28页 | | 第3章 2,4-二氯苯氧乙酸分子印迹聚合物的制备及其吸附性能 | 第28-53页 | | ·介孔HMS 基体的合成 | 第28-34页 | | ·介孔HMS 的合成工艺 | 第28-29页 | | ·模板剂DDA 的脱除 | 第29-30页 | | ·孔道结构表征 | 第30-33页 | | ·HMS 分子筛形成机理 | 第33-34页 | | ·2,4-D 分子印迹聚合物的制备 | 第34-46页 | | ·2,4-D 分子印迹聚合物的合成工艺 | 第34-36页 | | ·分子印迹模板及表面活性剂模板DDA 的脱除 | 第36-38页 | | ·功能单体和模板分子之间的作用方式 | 第38-39页 | | ·制备条件对吸附效果的影响 | 第39-43页 | | ·孔结构及形貌表征 | 第43-46页 | | ·2.4-D 分子印迹聚合物吸附性能的测试 | 第46-52页 | | ·吸附动力学 | 第46-47页 | | ·吸附等温线 | 第47-48页 | | ·Scatchard 方程解析 | 第48-49页 | | ·吸附选择性 | 第49-51页 | | ·重复利用率 | 第51-52页 | | ·本章小结 | 第52-53页 | | 第4章 甲基橙分子印迹聚合物的制备及其吸附性能 | 第53-64页 | | ·甲基橙分子印迹聚合物的合成 | 第53-59页 | | ·甲基橙分子印迹聚合物的合成工艺 | 第53-54页 | | ·分子印迹模板及表面活性剂模板的脱除 | 第54-56页 | | ·功能单体和模板分子之间的作用分析 | 第56-57页 | | ·模板分子含量对吸附效果的影响 | 第57-58页 | | ·含水量对吸附效果的影响 | 第58页 | | ·孔结构表征 | 第58-59页 | | ·甲基橙分子印迹聚合物吸附性能的测试 | 第59-63页 | | ·吸附动力学 | 第59-60页 | | ·吸附等温线 | 第60-61页 | | ·Scatchard 方程解析 | 第61-62页 | | ·重复利用率 | 第62-63页 | | ·本章小结 | 第63-64页 | | 结论 | 第64-65页 | | 参考文献 | 第65-71页 | | 致谢 | 第71页 |
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