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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--Ta及Ta-N薄膜的制备与电学性能研究
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Ta及Ta-N薄膜的制备与电学性能研究
 
     论文目录
 
摘要第1-6页
Abstract第6-10页
插图索引第10-12页
附表索引第12-13页
第1章 绪论第13-25页
   ·引言第13页
   ·Ta-N 薄膜的研究与发展现状第13-18页
     ·Ta-N 薄膜在电阻器中的应用和发展第14-16页
     ·Ta-N 薄膜在扩散阻挡层中的应用和发展第16-18页
   ·金属薄膜电学性能的研究理论第18-22页
     ·连续金属薄膜的导电机理第19-20页
     ·不连续金属薄膜的导电机理第20-22页
   ·金属薄膜的扩散理论第22-24页
   ·本文的选题依据及主要内容第24-25页
第2章 Ta 系薄膜样品的制备技术及表征方法第25-32页
   ·薄膜样品的制备技术第25-27页
     ·Ta 系薄膜制备技术第25页
     ·磁控溅射原理第25-26页
     ·磁控溅射系统第26-27页
   ·Ta 系薄膜样品的表征方法第27-32页
     ·X 射线衍射第27页
     ·扫描电子显微镜第27-28页
     ·原子力显微镜第28-29页
     ·RTS-8 型数字式四探针测试仪第29-30页
     ·薄膜电学性能测试系统第30-32页
第3章 Ta 电阻薄膜的结构和电学性质研究第32-42页
   ·引言第32页
   ·Ta 薄膜样品的制备第32-33页
   ·结果与讨论第33-40页
     ·溅射功率对 Ta 薄膜表面形貌和电学性能的影响第33-35页
     ·溅射时间及热处理过程对 Ta 薄膜电学性能的影响第35-40页
   ·本章小结第40-42页
第4章 Ta-N 薄膜制备及电学性能研究第42-67页
   ·引言第42页
   ·实验方法与过程第42-43页
   ·结果与讨论第43-66页
     ·基底材料和氮分压对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响第43-48页
     ·工作气压对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响第48-53页
     ·溅射功率对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响第53-56页
     ·基底温度对 Ta-N 薄膜微结构和电学性能的影响第56-60页
     ·热处理温度对薄膜微结构和电学性能的影响第60-66页
   ·本章小结第66-67页
第5章 磁控溅射的 Ta-N 薄膜的扩散阻挡性能研究第67-80页
   ·引言第67页
   ·试验方法与过程第67-68页
   ·结果与讨论第68-79页
     ·不同 N2/Ar 流量比制备的 Ta-N 薄膜扩散阻挡性能研究第68-72页
     ·Ta/TaN 薄膜的扩散阻挡性能研究第72-76页
     ·Ti/TaN 薄膜的扩散阻挡性能研究第76-79页
   ·本章小结第79-80页
总结与展望第80-82页
参考文献第82-89页
附录 A(攻读硕士学位期间发表的学术论文情况)第89-90页
致谢第90页

 
 
论文编号BS1743802,这篇论文共90
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