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紫外光刻仿真及掩模优化设计研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-7页 | | Abstract | 第7-13页 | | 第1章 绪论 | 第13-30页 | | ·微机电系统的发展现状及其加工技术 | 第13-17页 | | ·MEMS加工技术 | 第13-16页 | | ·基于光刻的微细加工技术 | 第16-17页 | | ·光学光刻技术 | 第17-21页 | | ·接近式和接触式光刻 | 第17-18页 | | ·投影式光刻系统 | 第18-19页 | | ·光学系统分辨率 | 第19-20页 | | ·光刻胶技术 | 第20-21页 | | ·光刻仿真技术的发展 | 第21-23页 | | ·投影式光刻仿真 | 第21-22页 | | ·接近式光刻及深度光刻仿真 | 第22-23页 | | ·微细加工误差研究的意义 | 第23-25页 | | ·本文内容安排 | 第25-26页 | | 本章参考文献 | 第26-30页 | | 第2章光刻理论及遗传算法基础 | 第30-49页 | | ·引言 | 第30-31页 | | ·接近式光刻模型 | 第31-33页 | | ·接近式光刻光的标量衍射理论 | 第33-43页 | | ·基尔霍夫公式及瑞利-索末菲公式 | 第35-36页 | | ·介质表面的对光的反射 | 第36-37页 | | ·衍射的角谱理论 | 第37-43页 | | ·遗传算法简介 | 第43-46页 | | ·遗传算法起源和特点 | 第43页 | | ·遗传算法与自然选择 | 第43-44页 | | ·遗传算法的基本步骤 | 第44-46页 | | ·遗传算法的特点 | 第46页 | | ·遗传算法的应用 | 第46页 | | 本章参考文献 | 第46-49页 | | 第3章 光刻的角谱仿真研究 | 第49-67页 | | ·引言 | 第49页 | | ·紫外光刻机的照明机理 | 第49-50页 | | ·接近式曝光的数学模型 | 第50-52页 | | ·角谱法计算衍射场 | 第52-53页 | | ·光波在空域的瑞利-索末菲衍射积分 | 第52页 | | ·光波的角谱传播公式 | 第52-53页 | | ·FFT的频谱混叠影响的控制 | 第53-56页 | | ·FFT计算中存在问题 | 第53-54页 | | ·FFT变换采样点数的选择 | 第54-55页 | | ·确定最小空域采样区间长度 | 第55-56页 | | ·仿真实验 | 第56-57页 | | ·与瑞利-索末菲积分方法的比较 | 第57-59页 | | ·接触式曝光间隙的处理 | 第59页 | | ·线宽光刻曝光的仿真及实验分析 | 第59-64页 | | ·线宽2微米的仿真 | 第59-61页 | | ·线宽5微米仿真 | 第61-62页 | | ·线宽10微米的仿真 | 第62-63页 | | ·直边衍射 | 第63-64页 | | ·仿真结论 | 第64页 | | ·其它掩模形状的快速角谱仿真模拟 | 第64-66页 | | ·本章总结 | 第66页 | | 本章参考文献 | 第66-67页 | | 第4章 接近式光刻掩模优化 | 第67-89页 | | ·引言 | 第67页 | | ·接近式光刻仿真模型 | 第67页 | | ·矩形掩模的接近式光刻仿真 | 第67-69页 | | ·微米方孔仿真 | 第67-68页 | | ·微米方透光孔仿真 | 第68页 | | ·边长10微米透光孔仿真 | 第68-69页 | | ·矩形孔仿真结论 | 第69页 | | ·掩模的优化方法讨论 | 第69-74页 | | ·投影式光刻的掩模优化技术 | 第69-73页 | | ·投影式光刻掩模修正方法总结 | 第73-74页 | | ·接近式光刻的掩模优化 | 第74页 | | ·遗传算法设计 | 第74-79页 | | ·编码方式 | 第75-77页 | | ·适应度评价策略 | 第77-78页 | | ·遗传操作和算法流程图 | 第78-79页 | | ·仿真实验 | 第79-87页 | | ·矩形掩模的优化 | 第79-80页 | | ·外拐角掩模优化结果 | 第80-85页 | | ·内拐角掩模优化 | 第85-86页 | | ·L型掩模的优化应用仿真 | 第86-87页 | | ·本章总结 | 第87页 | | 本章参考文献 | 第87-89页 | | 第5章 深度光刻分析及优化 | 第89-112页 | | ·引言 | 第89页 | | ·SU-8光刻胶介绍 | 第89-91页 | | ·光刻胶的工艺 | 第89页 | | ·光刻胶的特性 | 第89-90页 | | ·折射率 | 第90页 | | ·胶厚的控制 | 第90-91页 | | ·曝光工艺的控制 | 第91页 | | ·紫外光在SU-8光刻胶中的传播 | 第91-94页 | | ·光在光刻胶内传播 | 第91-93页 | | ·光的吸收 | 第93-94页 | | ·光刻胶深度曝光误差分析 | 第94-104页 | | ·基底反射对光刻的影响 | 第94-95页 | | ·波长对光刻结果的影响 | 第95-97页 | | ·线宽图形的深度光刻仿真与实验结果 | 第97-100页 | | ·微柱的光刻模拟及结果 | 第100-104页 | | ·微齿轮的深度模拟果 | 第104页 | | ·深度光刻误差总结 | 第104页 | | ·深度光刻的优化 | 第104-110页 | | ·优化的方法 | 第104-105页 | | ·外拐角的深度光刻优化 | 第105页 | | ·优化前外拐角轮廓 | 第105-107页 | | ·内拐角的深度光刻优化 | 第107-110页 | | ·本章总结 | 第110页 | | 本章参考文献 | 第110-112页 | | 第6章 结束语 | 第112-116页 | | ·本文的主要工作 | 第112-113页 | | ·接近式紫外光刻的角谱仿真模型 | 第112页 | | ·基于遗传算法的掩模优化 | 第112-113页 | | ·深度光刻的误差分析及掩模优化 | 第113页 | | ·本文的创新之处 | 第113-114页 | | ·频域FFT快速算法仿真 | 第113页 | | ·基于遗传算法的掩模设计优化方法 | 第113-114页 | | ·深度光刻的优化方法研究 | 第114页 | | ·不足之处与展望 | 第114-116页 | | ·接近式光刻误差的其他影响因素 | 第114页 | | ·优化掩模的实验验证 | 第114-115页 | | ·其他掩模特征图形的优化研究 | 第115-116页 | | 附录:发表论文情况和科研情况 | 第116-117页 | | 致谢 | 第117页 |
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论文编号BS1490221，这篇论文共117页
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