摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章绪论 | 第11-26页 |
1.1薄膜的研究现状 | 第11-13页 |
1.1.1薄膜的制备方法 | 第11-12页 |
1.1.2薄膜材料的应用 | 第12-13页 |
1.2对基于液相基底生长的金属薄膜的研究现状 | 第13-16页 |
1.2.1对基于硅油表面生长的金属薄膜形貌、微观结构的研究 | 第13-15页 |
1.2.2对基于硅油表面生长的金属薄膜的内应力研究 | 第15-16页 |
1.3退火对薄膜特性的影响研究 | 第16-20页 |
1.4表面增强拉曼散射的研究现状 | 第20-23页 |
1.4.1SERS基底的种类 | 第20-21页 |
1.4.2SERS基底的结构 | 第21-23页 |
1.5基于液相基底生长的金属薄膜的SERS性能研究现状 | 第23-24页 |
1.6论文立题依据和研究内容 | 第24-26页 |
1.6.1立题依据 | 第24页 |
1.6.2研究内容 | 第24-26页 |
第二章薄膜的生长机理和表面增强拉曼散射原理 | 第26-35页 |
2.1薄膜的生长机理 | 第26-27页 |
2.1.1薄膜的三种生长模式 | 第26-27页 |
2.1.2二阶段生长模型 | 第27页 |
2.2拉曼散射光谱的简单介绍 | 第27-30页 |
2.3表面增强拉曼散射原理 | 第30-34页 |
2.4本章小结 | 第34-35页 |
第三章热退火处理对基于液相基底生长的金薄膜表面形貌以及SERS性能影响的研究 | 第35-58页 |
3.0实验材料和方法 | 第35-37页 |
3.0.1实验试剂 | 第35页 |
3.0.2实验仪器和设备 | 第35-36页 |
3.0.3样品制备的实验方法 | 第36-37页 |
3.1热退火处理后金薄膜光学形貌的变化 | 第37-43页 |
3.1.1光学显微镜的使用方法 | 第37-38页 |
3.1.2不同退火温度下的金薄膜的光学显微镜形貌分析 | 第38-43页 |
3.2热退火处理后金薄膜的SEM形貌变化 | 第43-49页 |
3.2.1扫描电子显微镜的使用方法 | 第43-44页 |
3.2.2不同退火温度下的金薄膜的SEM形貌分析 | 第44-49页 |
3.3热退火处理后金薄膜的SERS性能变化 | 第49-53页 |
3.3.1拉曼光谱仪的简单介绍 | 第49-50页 |
3.3.2拉曼测试的实验介绍 | 第50-51页 |
3.3.3不同退火温度处理的金薄膜作为SERS基底的拉曼光谱分析 | 第51-53页 |
3.4FDTD模拟退火前后金薄膜的电磁场分布 | 第53-56页 |
3.4.1FDTD的基本理论 | 第53-54页 |
3.4.2时域有限差分法的模拟设置 | 第54-55页 |
3.4.3不同退火温度处理的金薄膜作为SERS基底的拉曼光谱分析 | 第55-56页 |
3.5本章小结 | 第56-58页 |
第四章结论和展望 | 第58-60页 |
4.1结论及创新点 | 第58-59页 |
4.2今后的工作方向和展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-65页 |
附录 | 第65-66页 |
附录1将SEM图像转换为3D图形的Matlab程序 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
作者简介 | 第67-68页 |
1作者简历 | 第67页 |
2攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第67页 |
3参与的科研项目及获奖情况 | 第67-68页 |
学位论文数据集 | 第68页 |