摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第10页 |
1.2 氮氧化硅的晶体结构及性质 | 第10-14页 |
1.2.1 氮氧化硅的晶体结构 | 第11页 |
1.2.2 氮氧化硅的性质 | 第11-14页 |
1.3 氮氧化硅陶瓷材料的制备 | 第14-20页 |
1.3.1 致密氮氧化硅陶瓷材料的制备 | 第14-19页 |
1.3.2 氮氧化硅多孔陶瓷的制备 | 第19-20页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
第2章 材料的制备与试验方法 | 第22-30页 |
2.1 试验原料 | 第22页 |
2.2 试验仪器 | 第22-23页 |
2.3 氮氧化硅(Si_2N_2O)陶瓷材料成分选择与制备工艺 | 第23-24页 |
2.3.1 Si_3N_4/SiO_2成分的选择 | 第23页 |
2.3.2 氮氧化硅材料的制备工艺 | 第23-24页 |
2.4 材料性能的测试 | 第24-28页 |
2.4.1 气孔率及致密度 | 第24-25页 |
2.4.2 弯曲强度 | 第25-26页 |
2.4.3 弹性模量 | 第26页 |
2.4.4 断裂韧性 | 第26-27页 |
2.4.5 维氏硬度 | 第27-28页 |
2.4.6 介电性能 | 第28页 |
2.4.7 抗氧化性能 | 第28页 |
2.4.8 抗热震性能 | 第28页 |
2.5 物相及组织结构分析 | 第28-30页 |
2.5.1 物相分析 | 第28-29页 |
2.5.2 组织结构分析 | 第29-30页 |
第3章 Si_2N_2O 陶瓷材料的制备及组织观察 | 第30-59页 |
3.1 Si_2N_2O 陶瓷材料的物相组成 | 第30-43页 |
3.1.1 烧结温度对氮氧化硅陶瓷相组成的影响 | 第30-35页 |
3.1.2 成型条件对氮氧化硅陶瓷相组成的影响 | 第35-38页 |
3.1.3 烧结时间对氮氧化硅陶瓷相组成的影响 | 第38-41页 |
3.1.4 烧结方式对氮氧化硅陶瓷相组成的影响 | 第41-43页 |
3.2 Si_2N_2O 陶瓷材料的致密化 | 第43-49页 |
3.2.1 烧结温度对氮氧化硅陶瓷致密化的影响 | 第43-45页 |
3.2.2 成型条件对氮氧化硅陶瓷致密化的影响 | 第45-47页 |
3.2.3 烧结时间对氮氧化硅陶瓷致密化的影响 | 第47-48页 |
3.2.4 烧结方式对氮氧化硅陶瓷致密化的影响 | 第48-49页 |
3.3 Si_2N_2O 陶瓷材料的组织结构 | 第49-58页 |
3.3.1 烧结温度对氮氧化硅陶瓷显微组织的影响 | 第49-52页 |
3.3.2 成型条件对氮氧化硅陶瓷显微组织的影响 | 第52-54页 |
3.3.3 烧结时间对氮氧化硅陶瓷显微组织的影响 | 第54-56页 |
3.3.4 烧结方式对氮氧化硅陶瓷显微组织的影响 | 第56-58页 |
3.4 本章小结 | 第58-59页 |
第4章 Si_2N_2O 陶瓷材料的组织与性能 | 第59-71页 |
4.1 无压烧结制备 Si_2N_2O 陶瓷材料的组织与力学性能 | 第59-63页 |
4.1.1 无压烧结制备氮氧化硅陶瓷的断口形貌 | 第59-60页 |
4.1.2 无压烧结制备氮氧化硅陶瓷的力学性能 | 第60-63页 |
4.2 SPS 烧结制备 Si_2N_2O 陶瓷材料的组织与力学性能 | 第63-68页 |
4.2.1 SPS 烧结制备氮氧化硅陶瓷的断口形貌 | 第63-64页 |
4.2.2 SPS 烧结制备氮氧化硅陶瓷的力学性能 | 第64-68页 |
4.3 Si_2N_2O 陶瓷材料的介电性能 | 第68-69页 |
4.4 本章小结 | 第69-71页 |
第5章 Si_2N_2O 陶瓷材料的高温性能 | 第71-78页 |
5.1 Si_2N_2O 陶瓷材料的抗氧化性能 | 第71-75页 |
5.1.1 温度对氧化后物相和表面形貌的影响 | 第71-73页 |
5.1.2 烧结助剂含量对氧化后物相和表面形貌的影响 | 第73-74页 |
5.1.3 氧化机制 | 第74-75页 |
5.2 Si_2N_2O 陶瓷材料的抗热震性能 | 第75-77页 |
5.2.1 氮氧化硅陶瓷热震后的残余抗弯强度 | 第75-76页 |
5.2.2 氮氧化硅陶瓷热震后的断口形貌 | 第76-77页 |
5.3 本章小结 | 第77-78页 |
结论 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-84页 |
致谢 | 第84页 |