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光刻工艺重复图形失效问题分析和防范 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-5页 | | ABSTRACT | 第5页 | | 第一章 绪论 | 第7-16页 | | 1.1 引言 | 第7页 | | 1.2 光刻的基本原理 | 第7-10页 | | 1.3 掩模版的介绍以及制造工艺简介 | 第10-15页 | | 1.3.1 掩模版的介绍 | 第10-12页 | | 1.3.2 掩模版的制作流程和品质 | 第12-15页 | | 1.4 本章小结 | 第15-16页 | | 第二章 光刻重复图形失效造成问题案例分析 | 第16-24页 | | 2.1 微小颗粒污染造成的重复图形失效问题案例 | 第16-17页 | | 2.2 掩模版雾化造成的重复图形失效问题案例 | 第17-20页 | | 2.3 静电造成的重复图形失效问题案例 | 第20-21页 | | 2.4 掩膜版清洗过程中的损伤造成的重复图形失效问题案例 | 第21-23页 | | 2.5 本章小结 | 第23-24页 | | 第三章 光刻重复图形失效问题的晶圆和掩模版检测 | 第24-31页 | | 3.1 晶圆扫描检测系统 | 第24-27页 | | 3.2 掩模版的扫描检查 | 第27-30页 | | 3.2.1 K 公司 UV 检测系统 | 第27-28页 | | 3.2.2 IRIS 检测系统 | 第28-30页 | | 3.5 本章小结 | 第30-31页 | | 第四章 光刻重复图形失效问题的解决方案 | 第31-56页 | | 4.1 掩模版雾化问题持续改善 | 第31-38页 | | 4.1.1 掩模版清洗的方式的持续改善 | 第32-35页 | | 4.1.2 光刻区域掩模版存储环境的持续改善 | 第35-38页 | | 4.2 光刻区域环境微小颗粒的含量的持续改善 | 第38-42页 | | 4.2.1 厂务系统对于光刻区域微小颗粒污染的管控 | 第39-41页 | | 4.2.2 光刻区域的操作员产生的微小颗粒污染的管控 | 第41-42页 | | 4.3 光刻机曝光过程中重复图形失效产生的管控 | 第42-46页 | | 4.3.1 光刻机介绍 | 第42-43页 | | 4.3.2 光刻机掩模版传送系统 | 第43-45页 | | 4.3.3 改善掩模版在传送和曝光过程当中被污染的方法 | 第45-46页 | | 4.4 光刻区域静电的管控 | 第46-51页 | | 4.5 掩膜版在线监测方式的优化 | 第51-54页 | | 4.6 本章小结 | 第54-56页 | | 第五章 结论 | 第56-57页 | | 参考文献 | 第57-59页 | | 发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 | | 致谢 | 第60页 |
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论文编号BS3457422，这篇论文共60页
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