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基于MOEMS技术的光栅平动式光调制器阵列若干关键技术研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-7页 | | ABSTRACT | 第7-13页 | | 1 绪论 | 第13-28页 | | ·研究的背景技术和应用领域发展概况 | 第13-14页 | | ·基于MOEMS 技术的应用于显示领域光调制器技术对比 | 第14-25页 | | ·数字微镜DMD | 第14-16页 | | ·光栅光阀GLV | 第16-17页 | | ·其它光调制器 | 第17-21页 | | ·各种MEOMS 显示技术的优缺点和应用范围 | 第21-25页 | | ·研究的意义和内容 | 第25-27页 | | ·研究的意义 | 第25-26页 | | ·研究的内容 | 第26-27页 | | ·全文总览 | 第27页 | | ·小结 | 第27-28页 | | 2 光栅平动式光调制器的理论分析 | 第28-43页 | | ·引言 | 第28页 | | ·光栅平动式光调制器(GMLM)的结构和光调制原理 | 第28-30页 | | ·基于光栅平动式光调制器阵列的投影光学系统 | 第30-31页 | | ·光栅平动式光调制器光学原理分析 | 第31-33页 | | ·光栅平动式光调制器电力学原理分析 | 第33-42页 | | ·GMLM 的等效机电模型和静态特性分析 | 第33-36页 | | ·考虑电容边缘效应后的修正 | 第36-37页 | | ·等效弹性系数K 的确定 | 第37-38页 | | ·GMLM 的动态特性分析 | 第38-42页 | | ·小结 | 第42-43页 | | 3 光栅平动式光调制器的设计与仿真 | 第43-77页 | | ·引言 | 第43页 | | ·以GMLM 为核心器件的投影系统构成和设计要求 | 第43-45页 | | ·光栅平动式光调制器的结构设计 | 第45-48页 | | ·GMLM 的光栅占空比 | 第45-46页 | | ·GMLM 的光栅常数 | 第46页 | | ·GMLM 的光栅周期数 | 第46-47页 | | ·GMLM 上下极板间距 | 第47页 | | ·GMLM 悬臂梁设计 | 第47-48页 | | ·光栅平动式光调制器的仿真 | 第48-58页 | | ·仿真软件CoventorWare 简介 | 第48-49页 | | ·GMLM 机电特性仿真模型的构造 | 第49-51页 | | ·GMLM 机电特性仿真结果 | 第51-58页 | | ·光栅平动式光调制器的控制和驱动系统设计 | 第58-76页 | | ·光调制器控制和驱动系统方案对比 | 第58-61页 | | ·GMLM 控制和驱动系统整体方案设计 | 第61-62页 | | ·GMLM 上位机控制软件设计 | 第62-64页 | | ·以FPGA 为核心的GMLM 控制电路设计 | 第64-71页 | | ·GMLM 驱动电路设计 | 第71-76页 | | ·小结 | 第76-77页 | | 4 光栅平动式光调制器的工艺与改进 | 第77-122页 | | ·引言 | 第77页 | | ·工艺流程设计 | 第77-86页 | | ·适用于MOMES 器件加工的表面微加工工艺介绍 | 第77-83页 | | ·GMLM 工艺流程方案的比较与选择 | 第83-86页 | | ·第一次加工工艺研究 | 第86-94页 | | ·第一次加工布局 | 第86-87页 | | ·悬臂梁牺牲层技术研究 | 第87-91页 | | ·第一次加工结果与分析 | 第91-94页 | | ·第二次加工工艺改进 | 第94-107页 | | ·“掩埋梁”工艺研究 | 第94-100页 | | ·粘附问题研究 | 第100-104页 | | ·表面印痕 | 第104页 | | ·第二次加工结果与分析 | 第104-107页 | | ·第三次加工工艺改进 | 第107-121页 | | ·光栅平动式光调制器的翘曲问题分析 | 第107-113页 | | ·第三次加工工艺流程制订 | 第113-118页 | | ·第三次加工结果与分析 | 第118-121页 | | ·小结 | 第121-122页 | | 5 光栅平动式光调制器的测试与实验 | 第122-150页 | | ·引言 | 第122-123页 | | ·光栅平动式光调制器表面质量测量 | 第123-129页 | | ·GMLM 的Al 膜反射率测量 | 第123页 | | ·GMLM 的表面形貌测量 | 第123-128页 | | ·GMLM 的Al 膜表面粗糙度测量 | 第128-129页 | | ·光栅平动式光调制器机电特性参数测量 | 第129-146页 | | ·GMLM 经过投影光路的成像 | 第129-134页 | | ·GMLM 的机电特性参数测量平台 | 第134-135页 | | ·GMLM 的工作电压和吸合电压测量 | 第135-137页 | | ·GMLM 的等效弹性系数K 确定 | 第137-139页 | | ·GMLM 的残余应力确定 | 第139页 | | ·GMLM 的固有频率确定 | 第139-141页 | | ·GMLM 的吸合时间和释放时间测量 | 第141-143页 | | ·GMLM 的频率响应特性测量 | 第143-145页 | | ·GMLM 的脉宽调制能力测量 | 第145-146页 | | ·以光栅平动式光调制器为核心的投影系统的构成和实验 | 第146-149页 | | ·以GMLM 为核心的投影系统的构成 | 第146页 | | ·静态投影原理性验证实验 | 第146-147页 | | ·GMLM 阵列静态投影实验 | 第147-149页 | | ·GMLM 阵列动态投影实验 | 第149页 | | ·小结 | 第149-150页 | | 6 光栅平动式光调制器及驱动系统的改进 | 第150-157页 | | ·引言 | 第150页 | | ·光栅平动式光调制器驱动方法和电路的改进 | 第150-153页 | | ·方案1：GMLM 的双稳态设计和驱动 | 第150-152页 | | ·方案2：GMLM 的有源矩阵驱动设计 | 第152-153页 | | ·GMLM 的驱动电路单片集成 | 第153页 | | ·光栅平动式光调制器的失效机制分析和改进措施 | 第153-155页 | | ·污染 | 第153-154页 | | ·静电击毁 | 第154页 | | ·电压超标 | 第154-155页 | | ·小结 | 第155-157页 | | 7 全文总结及工作展望 | 第157-160页 | | 致谢 | 第160-161页 | | 参考文献 | 第161-168页 | | 附录 A | 第168-170页 | | 附录 B | 第170-172页 |
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论文编号BS824123，这篇论文共172页
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