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当前位置:教育论文中心首页--博士论文--微颗粒表面磁控溅射镀膜研究
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微颗粒表面磁控溅射镀膜研究
 
     论文目录
 
摘要第1-7页
Abstract第7-18页
第一章 引言第18-39页
   ·微颗粒表面镀膜的目的和意义第18-20页
   ·国内外关于微颗粒表面镀膜的研究现状第20-38页
     ·化学气相沉积方法第21-24页
     ·液相沉积第24页
     ·气相还原法第24页
     ·化学镀方法第24-28页
     ·溶胶-凝胶法第28-29页
     ·物理气相沉积第29-38页
   ·本论文的研究内容第38-39页
第二章 微颗粒磁控溅射镀膜实验设备的研制第39-45页
   ·微颗粒磁控溅射镀膜设备的设计第39-43页
   ·设备运行结果第43页
   ·本章小结第43-45页
第三章 空心微珠表面磁控溅射镀金属膜研究第45-93页
   ·空心微珠的预处理及理化特性分析第46-55页
     ·空心微珠的预处理第46-51页
     ·空心微珠的理化特性分析第51-55页
   ·磁控溅射镀镍膜、铜膜及银膜实验与结果第55-75页
     ·实验过程第55-56页
     ·空心微珠表面镀镍膜实验第56-65页
     ·空心微珠表面镀铜膜实验第65-70页
     ·空心微珠表面镀银膜实验第70-75页
   ·不同金属膜的表面形貌比较第75-78页
   ·空心微珠表面镀多层金属膜的实验研究第78-81页
     ·多层金属膜的形貌比较第78-80页
     ·多层金属膜的XRD 比较第80-81页
   ·超声波振动和样品架的摆动对金属膜性能的影响第81-84页
   ·磁控溅射与化学镀方法比较第84-91页
     ·化学镀的原理第84-85页
     ·化学镀方法镀膜的过程第85-86页
     ·光学显微镜下的比较第86-87页
     ·SEM 下的薄膜形貌比较第87-88页
     ·薄膜断面的比较第88-89页
     ·原子力显微镜下的表面粗糙度比较第89-90页
     ·讨论第90-91页
   ·小结第91-93页
第四章 碳化硅颗粒表面磁控溅射镀金属膜研究第93-100页
   ·SiC 颗粒表面磁控溅射镀金属铜膜实验第93-94页
   ·实验结果与讨论第94-99页
     ·表面形貌分析第94-95页
     ·表面成份分析第95-96页
     ·结构分析第96-99页
   ·小结第99-100页
第五章 磁控溅射在微颗粒表面镀金属膜的机理研究第100-113页
   ·磁控溅射沉积技术的特点第100-103页
     ·溅射机理第100页
     ·溅射镀膜的特点第100-101页
     ·磁控溅射的工作原理第101-103页
   ·薄膜生长过程及生长机理第103-105页
   ·各种因素对薄膜最终结构的影响第105页
   ·微颗粒表面磁控溅射金属膜的生长机理研究第105-112页
   ·小结第112-113页
第六章 空心微珠表面磁控溅射镀二氧化钛膜的研究第113-123页
   ·实验过程第115-116页
     ·空心微珠的表面预处理第115页
     ·磁控溅射镀膜过程第115-116页
     ·分析仪器第116页
   ·实验结果第116-121页
     ·表面形貌分析第116-117页
     ·薄膜的厚度测量第117-118页
     ·薄膜成份的分析第118-121页
     ·薄膜的结构分析第121页
   ·讨论第121页
   ·小结第121-123页
第七章 微颗粒表面镀金属薄膜的应用第123-144页
   ·屏蔽和干扰毫米电磁波的特种颗粒的制备第124-132页
     ·材料和颗粒尺寸形状的选择第124-125页
     ·颗粒表面镀金属薄膜第125-132页
   ·毫米电磁波衰减性能试验第132-142页
     ·毫米波测试仪器、原理和方法第132-133页
     ·毫米波静态衰减测试第133-138页
     ·毫米波动态衰减测试第138-142页
     ·讨论第142页
   ·小结第142-144页
结论第144-147页
参考文献第147-159页
攻读博士学位期间取得的研究成果第159-161页
致谢第161-162页
作者简介第162页

 
 
论文编号BS1566476,这篇论文共162
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