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微颗粒表面磁控溅射镀膜研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第1-7页 | Abstract | 第7-18页 | 第一章 引言 | 第18-39页 | ·微颗粒表面镀膜的目的和意义 | 第18-20页 | ·国内外关于微颗粒表面镀膜的研究现状 | 第20-38页 | ·化学气相沉积方法 | 第21-24页 | ·液相沉积 | 第24页 | ·气相还原法 | 第24页 | ·化学镀方法 | 第24-28页 | ·溶胶-凝胶法 | 第28-29页 | ·物理气相沉积 | 第29-38页 | ·本论文的研究内容 | 第38-39页 | 第二章 微颗粒磁控溅射镀膜实验设备的研制 | 第39-45页 | ·微颗粒磁控溅射镀膜设备的设计 | 第39-43页 | ·设备运行结果 | 第43页 | ·本章小结 | 第43-45页 | 第三章 空心微珠表面磁控溅射镀金属膜研究 | 第45-93页 | ·空心微珠的预处理及理化特性分析 | 第46-55页 | ·空心微珠的预处理 | 第46-51页 | ·空心微珠的理化特性分析 | 第51-55页 | ·磁控溅射镀镍膜、铜膜及银膜实验与结果 | 第55-75页 | ·实验过程 | 第55-56页 | ·空心微珠表面镀镍膜实验 | 第56-65页 | ·空心微珠表面镀铜膜实验 | 第65-70页 | ·空心微珠表面镀银膜实验 | 第70-75页 | ·不同金属膜的表面形貌比较 | 第75-78页 | ·空心微珠表面镀多层金属膜的实验研究 | 第78-81页 | ·多层金属膜的形貌比较 | 第78-80页 | ·多层金属膜的XRD 比较 | 第80-81页 | ·超声波振动和样品架的摆动对金属膜性能的影响 | 第81-84页 | ·磁控溅射与化学镀方法比较 | 第84-91页 | ·化学镀的原理 | 第84-85页 | ·化学镀方法镀膜的过程 | 第85-86页 | ·光学显微镜下的比较 | 第86-87页 | ·SEM 下的薄膜形貌比较 | 第87-88页 | ·薄膜断面的比较 | 第88-89页 | ·原子力显微镜下的表面粗糙度比较 | 第89-90页 | ·讨论 | 第90-91页 | ·小结 | 第91-93页 | 第四章 碳化硅颗粒表面磁控溅射镀金属膜研究 | 第93-100页 | ·SiC 颗粒表面磁控溅射镀金属铜膜实验 | 第93-94页 | ·实验结果与讨论 | 第94-99页 | ·表面形貌分析 | 第94-95页 | ·表面成份分析 | 第95-96页 | ·结构分析 | 第96-99页 | ·小结 | 第99-100页 | 第五章 磁控溅射在微颗粒表面镀金属膜的机理研究 | 第100-113页 | ·磁控溅射沉积技术的特点 | 第100-103页 | ·溅射机理 | 第100页 | ·溅射镀膜的特点 | 第100-101页 | ·磁控溅射的工作原理 | 第101-103页 | ·薄膜生长过程及生长机理 | 第103-105页 | ·各种因素对薄膜最终结构的影响 | 第105页 | ·微颗粒表面磁控溅射金属膜的生长机理研究 | 第105-112页 | ·小结 | 第112-113页 | 第六章 空心微珠表面磁控溅射镀二氧化钛膜的研究 | 第113-123页 | ·实验过程 | 第115-116页 | ·空心微珠的表面预处理 | 第115页 | ·磁控溅射镀膜过程 | 第115-116页 | ·分析仪器 | 第116页 | ·实验结果 | 第116-121页 | ·表面形貌分析 | 第116-117页 | ·薄膜的厚度测量 | 第117-118页 | ·薄膜成份的分析 | 第118-121页 | ·薄膜的结构分析 | 第121页 | ·讨论 | 第121页 | ·小结 | 第121-123页 | 第七章 微颗粒表面镀金属薄膜的应用 | 第123-144页 | ·屏蔽和干扰毫米电磁波的特种颗粒的制备 | 第124-132页 | ·材料和颗粒尺寸形状的选择 | 第124-125页 | ·颗粒表面镀金属薄膜 | 第125-132页 | ·毫米电磁波衰减性能试验 | 第132-142页 | ·毫米波测试仪器、原理和方法 | 第132-133页 | ·毫米波静态衰减测试 | 第133-138页 | ·毫米波动态衰减测试 | 第138-142页 | ·讨论 | 第142页 | ·小结 | 第142-144页 | 结论 | 第144-147页 | 参考文献 | 第147-159页 | 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第159-161页 | 致谢 | 第161-162页 | 作者简介 | 第162页 |
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