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基于纳米工艺标准单元的光学邻近效应优化设计方法 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-4页 | | Abstract | 第4-7页 | | 第一章 绪论 | 第7-13页 | | ·集成电路技术发展概况 | 第7-8页 | | ·可制造性设计问题 | 第8-11页 | | ·光刻技术 | 第8-10页 | | ·化学机械抛光技术 | 第10页 | | ·当前DFM问题 | 第10-11页 | | ·本文主要工作及内容结构 | 第11-13页 | | 第二章 光刻技术与OPC | 第13-23页 | | ·分辨率增强技术 | 第14-16页 | | ·移相掩膜伊SM) | 第14-15页 | | ·离轴照明(OAI) | 第15页 | | ·光学邻近校正(OPC) | 第15-16页 | | ·光学邻近校正技术 | 第16-21页 | | ·OPC概述 | 第16-19页 | | ·OPC背景 | 第19-20页 | | ·面临的挑战 | 第20-21页 | | ·本文研究内容 | 第21-23页 | | 第三章 基于Model-based OPC原理的标准单元设计优化 | 第23-37页 | | ·基于Cell的OPC技术研究现状 | 第23-24页 | | ·一种新型的优化设计方法 | 第24-32页 | | ·OPC修正复杂度的影响因素 | 第24-26页 | | ·版图优化基本原理 | 第26-27页 | | ·优化方法及实施过程 | 第27-31页 | | ·单元版图优化验证 | 第31-32页 | | ·单元库模型文件建立 | 第32-35页 | | ·时序参数模型建立 | 第32页 | | ·综合库建立 | 第32-33页 | | ·仿真库建立 | 第33-34页 | | ·布局布线库 | 第34-35页 | | ·符号库建立 | 第35页 | | ·本章总结 | 第35-37页 | | 第四章 单元库验证 | 第37-51页 | | ·单元库功能验证 | 第37-41页 | | ·组合逻辑单元功能验证 | 第37-40页 | | ·时序逻辑单元功能验证 | 第40-41页 | | ·单元库工具流程验证 | 第41-45页 | | ·行为级仿真 | 第42-43页 | | ·逻辑综合 | 第43-44页 | | ·静态时序分析 | 第44页 | | ·布局布线 | 第44-45页 | | ·后端分析 | 第45页 | | ·单元库性能验证 | 第45-49页 | | ·本章总结 | 第49-51页 | | 第五章 总结与展望 | 第51-55页 | | ·总结 | 第51-52页 | | ·未来工作展望 | 第52-55页 | | 致谢 | 第55-57页 | | 参考文献 | 第57-61页 | | 研究成果 | 第61页 |
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论文编号BS2078626，这篇论文共61页
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