|
|
|
|
印迹型TiO2光催化剂的制备及其光催化性能研究 |
| |
| 论文目录 |
| |
| 摘要 | 第1-7页 | | ABSTRACT | 第7-12页 | | 第一章 绪论 | 第12-28页 | | ·引言 | 第12页 | | ·TiO_2光催化技术 | 第12-15页 | | ·TiO_2光催化技术的发展 | 第12-14页 | | ·TiO_2光催化技术的原理 | 第14-15页 | | ·提高TiO_2催化剂效率的途径 | 第15-18页 | | ·贵金属沉积 | 第15-16页 | | ·离子掺杂 | 第16-17页 | | ·半导体复合材料 | 第17页 | | ·表面光敏化 | 第17-18页 | | ·提高TiO_2光催化反应选择性途径 | 第18-20页 | | ·调节溶液pH值改变表面荷电状态 | 第18-19页 | | ·氢键或疏水作用 | 第19页 | | ·双区结构作用 | 第19页 | | ·分子印迹增强选择性 | 第19-20页 | | ·分子印迹技术 | 第20-22页 | | ·分子印迹技术基本原理 | 第20-21页 | | ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第21-22页 | | ·分子印技术的应用 | 第22-26页 | | ·分子印技术在富集分离中的应用 | 第23页 | | ·分子印迹技术在分析检测中的应用 | 第23-25页 | | ·分子印迹技术与光催化技术的结合 | 第25-26页 | | ·研究意义与内容 | 第26-28页 | | ·研究意义 | 第26页 | | ·研究内容 | 第26-27页 | | ·技术路线 | 第27-28页 | | 第二章 印迹型TiO_2材料的制备及性能 | 第28-43页 | | ·引言 | 第28页 | | ·实验部分 | 第28-32页 | | ·试剂与设备 | 第28-29页 | | ·TiO_2光催化剂的制备 | 第29页 | | ·印迹型光催化剂的表征 | 第29-30页 | | ·对羟基苯甲酸乙酯标准曲线 | 第30-32页 | | ·光催化实验方法 | 第32页 | | ·结果与讨论 | 第32-42页 | | ·XRD分析 | 第32-33页 | | ·比表面积测试 | 第33-34页 | | ·催化剂SEM分析 | 第34-36页 | | ·功能单体与模板分子摩尔比对催化性能的影响 | 第36-37页 | | ·煅烧温度对催化性能影响 | 第37-38页 | | ·煅烧时间对催化性能影响 | 第38-39页 | | ·催化剂投加量对催化性能影响 | 第39-40页 | | ·不同催化剂催化降解性能 | 第40-42页 | | ·小结 | 第42-43页 | | 第三章 印迹型TiO_2催化剂的改性及其性能研究 | 第43-56页 | | ·引言 | 第43页 | | ·实验部分 | 第43-46页 | | ·试剂及设备 | 第43-44页 | | ·光催化剂的制备 | 第44页 | | ·光催化剂的表征 | 第44-45页 | | ·光催化实验方法 | 第45页 | | ·光催化对目标污染物和苯酣的选择性降解实验实验方法 | 第45-46页 | | ·结果与讨论 | 第46-55页 | | ·催化剂XRD分析 | 第46页 | | ·比表面积测试 | 第46-47页 | | ·催化剂SEM分析 | 第47-48页 | | ·石墨添加量对催化剂性能的影响 | 第48-49页 | | ·煅烧温度对催化剂性能的影响 | 第49-50页 | | ·催化剂用量对催化剂性能的影响 | 第50-51页 | | ·不同催化剂降解性能 | 第51-54页 | | ·催化剂选择性催化性能 | 第54-55页 | | ·小结 | 第55-56页 | | 第四章 结论与展望 | 第56-58页 | | ·结论 | 第56-57页 | | ·展望 | 第57-58页 | | 参考论文 | 第58-67页 | | 攻读硕士期间主要科研成果 | 第67-68页 | | 致谢 | 第68页 |
|
|
|
|
论文编号BS2129176，这篇论文共68页
会员购买按0.35元/页下载，共需支付23.8元。 直接购买按0.5元/页下载，共需要支付34元 。 |
 |
 |
我还不是会员，注册会员！
会员下载更优惠!充值送钱！ |
我只需要这篇，无需注册！
直接网上支付，方便快捷！ |
|
|
|
版权申明：本目录由www.jylw.com网站制作，本站并未收录原文，如果您是作者，需要删除本篇论文目录请通过QQ或其它联系方式告知我们，我们承诺24小时内删除。 |
|
|
广告服务