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温度响应和压力响应材料的光物理研究
 
     论文目录
 
摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 文献综述第12-40页
    1.1 前言第12-14页
    1.2 研究背景第14-16页
    1.3 光学传感器基本原理第16-21页
        1.3.1 发光过程动力学第16-19页
        1.3.2 荧光猝灭原理第19-21页
    1.4 光学温度和压力敏感涂料及其应用第21-38页
        1.4.1 光学温度敏感涂料第21-33页
            1.4.1.1 温度敏感涂料的发光探针第21-30页
            1.4.1.2 温度敏感涂料的高分子基质第30-31页
            1.4.1.3 光学温度敏感涂料的发展和应用第31-33页
        1.4.2 光学压力敏感涂料第33-38页
            1.4.2.1 压力敏感涂料的发光探针第33-35页
            1.4.2.2 压力敏感涂料的高分子基质第35-37页
            1.4.2.3 光学压力敏感涂料的发展和应用第37-38页
    1.5 研究目的和方法第38-40页
第2章 温度敏感涂料的光物理性质研究第40-52页
    2.1 引言第40-41页
    2.2 实验部分第41-43页
        2.2.1 试剂第41-42页
        2.2.2 实验设备和仪器第42页
        2.2.3 样片制备第42页
        2.2.4 荧光光谱测定第42-43页
    2.3 结果与讨论第43-50页
        2.3.1 高分子基质对TSP薄膜的温度灵敏度影响第43-48页
        2.3.2 高分子基质对发光强度的影响第48-49页
        2.3.3 探针浓度对发光强度的影响第49-50页
    2.4 本章小结第50-52页
第3章 压力敏感涂料的光物理性质研究第52-64页
    3.1 引言第52-53页
    3.2 实验部分第53-55页
        3.2.1 试剂第53-54页
        3.2.2 实验设备和仪器第54页
        3.2.3 光学压力敏感涂料的制备第54页
        3.2.4 荧光光谱测定第54页
        3.2.5 响应速度实验第54-55页
    3.3 结果与讨论第55-62页
        3.3.1 高分子结构与扩散控制氧猝灭第55-58页
        3.3.2 高分子与探针分子相互作用对氧猝灭的影响第58-61页
        3.3.3 高分子结构与氧猝灭时间响应第61-62页
    3.4 本章小结第62-64页
第4章 光学温度和光学压力敏感涂料在风洞测试中应用第64-84页
    4.1 引言第64页
    4.2 光学测量系统第64-66页
    4.3 PSP技术验证第66-75页
        4.3.1 样片校准及响应时间第66-70页
            4.3.1.1 样片校准第66-68页
            4.3.1.2 压力响应时间第68-70页
        4.3.2 风洞实验条件第70-71页
        4.3.3 图像采集与数据处理第71-72页
        4.3.4 试验结果与讨论第72-75页
    4.4 TSP技术验证第75-82页
        4.4.1 样片校准及响应时间第75-79页
            4.4.1.1 样片校准第75-77页
            4.4.1.2 温度响应时间第77-79页
        4.4.2 风洞试验条件第79-80页
        4.4.3 图像采集与数据处理第80-81页
        4.4.4 试验结果与讨论第81-82页
    4.5 本章小结第82-84页
第5章 全文总结第84-86页
参考文献第86-102页
攻读硕士期间已发表的论文第102-104页
附图第104-108页
致谢第108页

 
论文编号BS3287977,这篇论文共108
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