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石墨烯器件在溶液环境下的性能研究

论文目录

摘要	第4-5页
ABSTRACT	第5-6页
图表清单	第9-12页
第一章绪论	第12-20页
1.1 引言	第12页
1.2 石墨烯制备及性能	第12-18页
1.2.1 石墨烯的制备方法	第12-13页
1.2.2 石墨烯的性能研究	第13-15页
1.2.3 液栅调控的石墨烯器件	第15-17页
1.2.4 石墨烯霍尔器件	第17-18页
1.3 本论文的研究意义、研究方法和结果	第18-20页
第二章石墨烯材料制备	第20-32页
2.1 引言	第20页
2.2 石墨烯的 CVD 生长	第20-22页
2.3 生长后石墨烯质量的表征	第22-26页
2.3.1 石墨烯质量的简单观测	第22-24页
2.3.2 石墨烯的SEM和Raman表征	第24-26页
2.4 铜箔表面形貌对石墨烯质量的影响	第26-31页
2.5 本章小结	第31-32页
第三章石墨烯器件制备	第32-41页
3.1 引言	第32页
3.2 石墨烯转移	第32-34页
3.2.1 石墨烯转移至PET塑料上	第32-34页
3.2.2 石墨烯转移至 SiO_2/Si 片上	第34页
3.2.3 石墨烯转移至其他衬底	第34页
3.3 石墨烯器件制备	第34-40页
3.3.1 石墨烯液栅 FET 装置样品制备	第34-35页
3.3.2 石墨烯霍尔器件样品制备	第35-37页
3.3.3 I-V 测试	第37页
3.3.4 电子束曝光技术制备石墨烯器件	第37-40页
3.4 本章小结	第40-41页
第四章液栅调控石墨烯场效应管的测量研究	第41-46页
4.1 引言	第41页
4.2 液栅调控石墨烯在去离子水、氯化钠溶液中的性能	第41-42页
4.3 液栅调控石墨烯在 PEI 溶液中的性能	第42-43页
4.4 不同溶液环境中液栅调控石墨烯的性能分析	第43-45页
4.5 本章小结	第45-46页
第五章石墨烯霍尔器件在溶液中的霍尔响应和磁阻测量	第46-75页
5.1 引言	第46页
5.2 石墨烯霍尔响应和磁阻测量方法	第46-48页
5.3 石墨烯器件在不同溶液环境下的霍尔响应	第48-62页
5.3.1 空气和真空中的霍尔响应对比	第49-50页
5.3.2 低浓度氯化钠溶液中的霍尔响应	第50-52页
5.3.3 较高浓度氯化钠溶液中的霍尔响应	第52-53页
5.3.4 氯化锂和盐酸溶液中的霍尔响应	第53-55页
5.3.5 PEI 溶液中的霍尔响应	第55-58页
5.3.6 不同环境下霍尔响应调控对比	第58-62页
5.4 石墨烯器件在不同溶液环境下的磁阻变化	第62-70页
5.4.1 空气和真空中的磁阻变化对比	第62-63页
5.4.2 低浓度氯化钠溶液中的磁阻变化	第63-65页
5.4.3 较高浓度氯化钠溶液中的磁阻变化	第65-66页
5.4.4 PEI 溶液中的磁阻变化	第66-68页
5.4.5 不同环境下磁阻变化测量对比	第68-70页
5.5 其它测量研究	第70-74页
5.5.1 石墨烯器件霍尔响应的温度效应	第70-72页
5.5.2 石墨烯器件与 1020 元件的霍尔响应对比	第72-74页
5.6 本章小结	第74-75页
第六章总结和展望	第75-77页
6.1 结论	第75-76页
6.2 后续工作展望	第76-77页
参考文献	第77-84页
致谢	第84-85页
硕士期间论文发表（录用）情况	第85页

论文编号BS3698128，这篇论文共85页会员购买按0.35元/页下载，共需支付29.75元。直接购买按0.5元/页下载，共需要支付42.5元。

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