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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--用于硅转接板的氮化铝改性聚酰亚胺介质的制备和表征
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用于硅转接板的氮化铝改性聚酰亚胺介质的制备和表征
 
     论文目录
 
摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第一章 绪论第13-25页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 3D封装中的TSV技术第14-18页
        1.2.1 3D封装技术第14-15页
        1.2.2 TSV转接板技术第15-16页
        1.2.3 硅转接板体系对绝缘介质材料的性能要求第16-18页
    1.3 硅转接板上再分布层中绝缘介质第18-19页
        1.3.1 无机陶瓷介质第18-19页
        1.3.2 有机聚合物介质第19页
    1.4 聚酰亚胺基复合材料第19-23页
    1.5 本课题内容的研究意义和内容第23-25页
        1.5.1 本论文研究意义第23页
        1.5.2 研究内容第23-25页
第二章 ALN改性聚酰亚胺复合介质及硅转接板样件的制备第25-41页
    2.1 引言第25页
    2.2 AlN改性聚酰亚胺介质的方法研究第25-27页
    2.3 AlN/聚酰胺酸混合工艺第27-28页
        2.3.1 分散方式第27-28页
        2.3.2 混合方式第28页
    2.4 复合薄膜的成膜工艺和固化工艺第28-30页
        2.4.1 薄膜涂敷方式第28-29页
        2.4.2 固化工艺第29-30页
    2.5 薄膜脱模方式研究第30-31页
    2.6 复合薄膜应用于硅转接板上再分布层的基本工艺开发第31-36页
        2.6.1 种子层溅射第31-32页
        2.6.2 图形化光刻第32-33页
        2.6.3 引线的电镀第33-35页
        2.6.4 种子层刻蚀第35-36页
    2.7 复合薄膜应用于硅转接板上再分布层的集成工艺探索第36-40页
    2.8 本章小结第40-41页
第三章 ALN改性聚酰亚胺复合介质的表征与分析第41-58页
    3.1 引言第41页
    3.2 复合薄膜的结构分析第41-43页
        3.2.1 显微结构分析第41-42页
        3.2.2 红外光谱分析第42-43页
    3.3 复合薄膜的热学性质第43-46页
        3.3.1 复合薄膜的耐热性第43-45页
        3.3.2 复合薄膜的热膨胀性第45-46页
    3.4 复合薄膜的机械强度第46-51页
        3.4.1 复合薄膜的硬度第46-47页
        3.4.2 复合薄膜的基底结合力第47-51页
    3.5 复合薄膜的介电性质第51-56页
        3.5.1 复合薄膜的介电常数第51-53页
        3.5.2 复合薄膜的介质损耗第53-55页
        3.5.3 复合薄膜的交流电阻率第55-56页
    3.6 复合薄膜的吸潮性质第56-57页
    3.7 本章小结第57-58页
第四章 ALN改性聚酰亚胺复合介质的热导率表征第58-67页
    4.1 引言第58页
    4.2 材料的传热机理第58-59页
    4.3 薄膜热导率的测量理论第59-61页
    4.4 一种对比测量等厚绝缘薄膜的热导率测试探究第61-66页
        4.4.1 理论仿真第62-63页
        4.4.2 工艺制作第63-64页
        4.4.3 测试过程第64-65页
        4.4.4 测试结果第65-66页
    4.5 本章小结第66-67页
第五章 总结与展望第67-69页
    5.1 论文总结第67-68页
    5.2 主要创新点第68页
    5.3 今后展望第68-69页
参考文献第69-73页
致谢第73-75页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第75页

 
 
论文编号BS4411178,这篇论文共75
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