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基于DMD的扫描光刻系统图案生成质量优化方案的研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-5页 | | Abstract | 第5-6页 | | 第一章 引言 | 第9-20页 | | 1.1 研究背景 | 第9-10页 | | 1.2 无掩膜光刻技术的发展与研究现状 | 第10-15页 | | 1.2.1 基于带电粒子的无掩膜光刻技术 | 第10-12页 | | 1.2.2 光学无掩膜光刻技术 | 第12-15页 | | 1.3 光刻工艺的流程 | 第15-18页 | | 1.4 论文研究的主要工作 | 第18-20页 | | 1.4.1 论文研究的意义及目的 | 第18页 | | 1.4.2 论文研究的主要内容 | 第18-20页 | | 第二章 基于DMD的扫描光刻系统 | 第20-29页 | | 2.1 系统的整体组成结构 | 第20页 | | 2.2 前端照明系统 | 第20-22页 | | 2.2.1 光源 | 第20-21页 | | 2.2.2 光束整形与匀化系统 | 第21-22页 | | 2.3 数字微镜器件 | 第22-25页 | | 2.3.1 DMD的组成结构 | 第22-24页 | | 2.3.2 DMD的工作原理 | 第24-25页 | | 2.4 投影物镜系统 | 第25页 | | 2.5 机械移动平台 | 第25-26页 | | 2.6 光刻系统的扫描曝光模式 | 第26-27页 | | 2.7 本章小结 | 第27-29页 | | 第三章 光刻系统刻写线宽不均匀性优化方案的设计与实现 | 第29-37页 | | 3.1 刻写线宽不均匀性的分析 | 第29-31页 | | 3.2 线宽不均匀性优化方案的设计 | 第31-33页 | | 3.3 能量补偿电子掩膜版的制作 | 第33-34页 | | 3.4 线宽不均匀性优化方案的实现 | 第34-36页 | | 3.5 本章小结 | 第36-37页 | | 第四章 利用Wobulation技术增强扫描光刻微结构边缘的平滑性 | 第37-47页 | | 4.1 Wobulation技术 | 第37-39页 | | 4.2 利用Wobulation技术增强光刻微结构边缘平滑性方案的提出 | 第39-40页 | | 4.3 Wobulation技术用于实现增强光刻微结构边缘的平滑性 | 第40-46页 | | 4.3.1 方案的具体实施 | 第40-42页 | | 4.3.2 软件模拟仿真 | 第42-44页 | | 4.3.3 实验验证 | 第44-46页 | | 4.4 本章小结 | 第46-47页 | | 第五章 总结与展望 | 第47-49页 | | 5.1 工作总结 | 第47页 | | 5.2 未来展望 | 第47-49页 | | 参考文献 | 第49-53页 | | 致谢 | 第53-54页 | | 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第54页 |
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论文编号BS3549529，这篇论文共54页
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