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反应釜温度控制参数优化研究与PLC控制系统 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-5页 | | Abstract | 第5-10页 | | 第1章绪论 | 第10-16页 | | 1.1课题的背景及研究意义 | 第10页 | | 1.2反应釜温度控制的国内外研究现状 | 第10-12页 | | 1.2.1反应釜温控技术的发展 | 第10-11页 | | 1.2.2国内研究现状 | 第11-12页 | | 1.3反应釜温度控制的难点分析 | 第12-13页 | | 1.4课题研究内容 | 第13-14页 | | 1.5本章小结 | 第14-16页 | | 第2章间歇反应釜温度控制系统分析及模型建立 | 第16-28页 | | 2.1一般制药工艺生产流程概述 | 第16页 | | 2.2制药工艺流程中反应釜特性分析 | 第16-19页 | | 2.2.1反应釜结构 | 第17-18页 | | 2.2.2反应釜的过程参数 | 第18页 | | 2.2.3反应釜的工作特性 | 第18-19页 | | 2.3温度控制系统模型建立 | 第19-26页 | | 2.4设计指标 | 第26-27页 | | 2.5本章小结 | 第27-28页 | | 第3章间歇反应釜温度控制算法设计及仿真 | 第28-53页 | | 3.1PID控制算法 | 第28-29页 | | 3.2模糊PID控制算法 | 第29-35页 | | 3.2.1模糊控制器组成 | 第30-31页 | | 3.2.2模糊控制器设计 | 第31-35页 | | 3.3变论域模糊控制算法 | 第35-38页 | | 3.3.1变论域模糊控制器的必要性 | 第35-36页 | | 3.3.2变论域原理 | 第36-37页 | | 3.3.3变论域调整机构 | 第37-38页 | | 3.4预测控制算法 | 第38-47页 | | 3.4.1动态矩阵控制算法 | 第38-43页 | | 3.4.2DMC参数设计及仿真 | 第43-47页 | | 3.5控制算法仿真分析 | 第47-51页 | | 3.6本章小结 | 第51-53页 | | 第4章反应釜温度监控系统设计 | 第53-73页 | | 4.1PLC控制系统概述 | 第53-55页 | | 4.1.1PLC系统组成 | 第53-55页 | | 4.1.2PLC工作原理 | 第55页 | | 4.2PLC控制系统的硬件设计 | 第55-64页 | | 4.2.1I/O数量统计 | 第55-57页 | | 4.2.2PLC硬件选型 | 第57-61页 | | 4.2.3现场仪表 | 第61-62页 | | 4.2.4硬件电路设计 | 第62-64页 | | 4.3PLC控制系统的软件设计 | 第64-69页 | | 4.3.1项目创建 | 第64-66页 | | 4.3.2硬件组态 | 第66-67页 | | 4.3.3PLC控制系统的软件设计 | 第67-69页 | | 4.4反应釜温度监控系统设计 | 第69-72页 | | 4.4.1工艺界面 | 第70页 | | 4.4.2操作记录界面 | 第70-71页 | | 4.4.3报警界面 | 第71页 | | 4.4.4实时曲线界面 | 第71-72页 | | 4.5本章小结 | 第72-73页 | | 第5章基于OPC的控制平台搭建 | 第73-85页 | | 5.1OPC协议 | 第73-74页 | | 5.2WINCC组态软件 | 第74-75页 | | 5.3控制平台数据通讯的实现 | 第75-81页 | | 5.3.1WINCC与MATLAB数据通讯 | 第76-77页 | | 5.3.2PLC与上位机数据通讯 | 第77-78页 | | 5.3.3PLC与模块设备数据通讯 | 第78-81页 | | 5.4算法实现 | 第81-83页 | | 5.5本章小结 | 第83-85页 | | 结论 | 第85-87页 | | 参考文献 | 第87-91页 | | 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91-93页 | | 致谢 | 第93页 |
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论文编号BS4739081，这篇论文共93页
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