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铁磁/金属/铁磁三明治多层膜的应力阻抗效应研究 |
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| 摘要 | 第1-6页 | | ABSTRACT | 第6-10页 | | 第一章 引言 | 第10-17页 | | ·研究目的与意义 | 第10-11页 | | ·国内外研究进展 | 第11-15页 | | ·铁磁/金属/铁磁三明治多层膜阻抗的理论研究 | 第11-13页 | | ·非晶态铁磁合金应力阻抗效应及应用研究 | 第13-15页 | | ·论文选题依据及研究内容 | 第15-17页 | | ·选题依据 | 第15-16页 | | ·研究内容 | 第16-17页 | | 第二章 铁磁/金属/铁磁多层膜的应力阻抗计算 | 第17-42页 | | ·多层膜阻抗模型 | 第17-27页 | | ·应力相关的高频磁导率计算 | 第27-32页 | | ·多层膜的应力阻抗效应计算 | 第32-41页 | | ·应力作用下多层膜的阻抗 | 第32-34页 | | ·中间导电层厚度对应力阻抗效应的影响 | 第34-35页 | | ·铁磁层厚度对应力阻抗效应的影响 | 第35页 | | ·中间金属层电导率对应力阻抗效应的影响 | 第35-37页 | | ·频率对应力阻抗效应的影响 | 第37-38页 | | ·饱和磁化强度对应力阻抗效应的影响 | 第38-39页 | | ·磁各向异性对应力阻抗效应的影响 | 第39-41页 | | ·本章小结 | 第41-42页 | | 第三章 FeCoSiB/Cu/FeCoSiB 多层膜的制备与性能研究 | 第42-53页 | | ·制备方法 | 第42-45页 | | ·直流磁控溅射方法 | 第42-44页 | | ·应力阻抗效应测试 | 第44-45页 | | ·多层膜的应力阻抗效应 | 第45-51页 | | ·多层膜的阻抗特性 | 第45-47页 | | ·导电层厚度对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第47-48页 | | ·铁磁层厚度对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第48-49页 | | ·测试频率对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第49-50页 | | ·不同金属层材料对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第50-51页 | | ·小结 | 第51-53页 | | 第四章 图形化FeCoSiB/Cu/FeCoSiB 应变片制备与测试 | 第53-60页 | | ·图形化应变片的制备 | 第53-57页 | | ·湿法刻蚀方法研究 | 第54-56页 | | ·剥离方法研究 | 第56-57页 | | ·图形化单元的应力阻抗特性 | 第57-58页 | | ·本章小结 | 第58-60页 | | 第五章 结论 | 第60-62页 | | 致谢 | 第62-63页 | | 参考文献 | 第63-66页 | | 硕士期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
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论文编号BS312782，这篇论文共67页
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