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大面积高分辨率数字X射线探测器关键技术的研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第1-6页 | ABSTRACT | 第6-10页 | 1 绪论 | 第10-24页 | ·X射线探测器技术发展概述 | 第11-16页 | ·本系统中X射线探测器的结构 | 第16-20页 | ·当前需要研究的两项关键技术 | 第20-22页 | ·本论文研究的内容及意义 | 第22-24页 | 2 像素化X射线转换屏的制作 | 第24-54页 | ·X射线转换屏的像素化与光助电化学刻蚀法 | 第24-30页 | ·大面积硅片光助电化学刻蚀中存在的问题 | 第30-39页 | ·新型大面积硅片光助电化学刻蚀装置 | 第39-44页 | ·深孔阵列和深槽阵列的制作 | 第44-50页 | ·像素化X射线转换屏制作的后续工艺 | 第50-53页 | ·本章小结 | 第53-54页 | 3 数据采集系统的总体设计和硬件实现 | 第54-84页 | ·总体设计 | 第54-60页 | ·电路原理图设计 | 第60-73页 | ·PCB板图设计 | 第73-83页 | ·本章小结 | 第83-84页 | 4 数据采集系统的FPGA和软件实现 | 第84-120页 | ·数据采集系统的FGPA设计 | 第84-106页 | ·数据采集系统的软件设计 | 第106-111页 | ·参数可调整数据采集系统的实现 | 第111-119页 | ·本章小结 | 第119-120页 | 5 总结 | 第120-123页 | ·已取得的进展 | 第120-121页 | ·下一步工作介绍 | 第121-123页 | 致谢 | 第123-124页 | 参考文献 | 第124-138页 | 附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第138页 |
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