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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--PTFE隔膜的改性及在电化学合成N2O5中的应用
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PTFE隔膜的改性及在电化学合成N2O5中的应用
 
     论文目录
 
摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第一章 文献综述第8-28页
    1.1 膜的定义及其应用第8页
    1.2 常见氟化聚合物膜简介第8-14页
        1.2.1 Nafion膜简介第9-11页
        1.2.2 PTFE膜简介第11-13页
        1.2.3 膨体聚四氟乙烯(EPTFE)膜简介第13-14页
    1.3 膜的改性研究现状第14-27页
        1.3.1 Nafion膜的改性研究第14-18页
        1.3.2 PTFE膜的改性研究第18-22页
        1.3.3 其他膜的改性研究第22-23页
        1.3.4 N_20_4 的制备第23页
        1.3.5 N_20_4 电氧化法第23-25页
        1.3.6 HN0_3 脱水法第25页
        1.3.7 N_20_4 电氧化过程中隔膜的研究现状第25-27页
    1.4 本课题的研究内容及意义第27-28页
第二章 实验部分第28-37页
    2.1 实验材料和实验仪器第28-29页
    2.2 化学蚀刻改性第29-30页
        2.2.1 钠萘溶液的制备第29页
        2.2.2 钠萘溶液改性PTFE膜第29-30页
    2.3 PTFE/Nafion改性膜的制备第30页
    2.4 无机-有机杂化膜的制备第30-31页
        2.4.1 PNS膜的制备第30页
        2.4.2 PNT膜的制备第30页
        2.4.3 无机-有机杂化膜制备后处理的讨论第30-31页
    2.5 PNS/PNT-EPTFE复合膜的制备第31-32页
        2.5.1 PNS-EPTFE膜的制备第31页
        2.5.2 PNT-EPTFE膜的制备第31-32页
    2.6 膜的表征及性能测试第32-37页
        2.6.1 膜电阻第32页
        2.6.2 渗透实验第32-33页
        2.6.3 扫描电镜(SEM)分析第33-34页
        2.6.4 红外光谱(FTIR)分析第34页
        2.6.5 光电子能谱(XPS)分析第34页
        2.6.6 PTFE膜厚度的测定第34页
        2.6.7 水接触角测定第34页
        2.6.8 电化学合成N_20_5第34-37页
第三章 化学蚀刻改性和Si0_2/Ti0_2掺杂改性膜的研究第37-59页
    3.1 后处理对负载量的影响第37-38页
    3.2 改性前后膜质量的变化第38页
    3.3 改性膜的红外光谱第38-42页
    3.4 光电子能谱(XPS)分析第42-44页
    3.5 改性PTFE膜的形貌分析第44-47页
    3.6 改性膜电导率的变化第47-48页
    3.7 改性膜水接触角的测定第48-50页
    3.8 渗透表征第50-57页
        3.8.1 H_20的渗透第52-54页
        3.8.2 N_20_4 的渗透第54-55页
        3.8.3 H_20和N_20_4 相互影响下的渗透第55-57页
    3.9 电解实验结果第57-59页
第四章 Ti0_2/Si0_2掺杂改性膜与EPTFE膜的复合膜的研究第59-65页
    4.1 渗透性能表征第59-64页
        4.1.1 H_20的渗透第59-60页
        4.1.2 N_20_4 的渗透第60-62页
        4.1.3 H_20和N_20_4 相互影响下的渗透第62-64页
    4.2 电解实验结果第64-65页
第五章 结论第65-66页
参考文献第66-71页
致谢第71页

 
 
论文编号BS3507184,这篇论文共71
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