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射频VDMOS器件结构研究
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射频VDMOS器件结构研究
论文目录
摘要
第1-4页
Abstract
第4-7页
第一章 绪论
第7-15页
·VDMOS器件简介
第7-11页
·功率器件发展历史
第7-10页
·VDMOS器件结构和特点
第10-11页
·VDMOS器件研究进展
第11页
·VDMOS研究方向
第11-12页
·本论文的研究意义和研究内容
第12-15页
第二章 功率VDMOS准饱和特性研究
第15-27页
·准饱和特性机理
第15-21页
·准饱和特性的危害
第18页
·P体间距(栅宽)对准饱和特性的影响
第18-20页
·外延层掺杂浓度对准饱和特性的影响
第20-21页
·准饱和特性的改善
第21-25页
·本章小结
第25-27页
第三章 VDMOS击穿特性研究
第27-37页
·高压大电流VDMOS的Superjunction结构
第27-30页
·超结理论基本原理
第27-29页
·超结理论在应用中的缺陷
第29-30页
·PFVDMOS结构简介
第30-32页
·低压VDMOS击穿电压分析
第32-33页
·击穿电压和外延层浓度的关系
第32页
·击穿电压和沟道浓度的关系
第32-33页
·阈值电压
第33-37页
第四章 VDMOS射频特性研究
第37-47页
·VDMOS与LDMOS在频率特性上的比较
第37-39页
·影响跨导特性的因素
第39-40页
·栅氧化层厚度对跨导的影响
第39-40页
·外延层浓度对跨导的影响
第40页
·影响VDMOS电容特性的因素
第40-47页
·栅漏电容的构成
第41-43页
·沟道浓度对电容特性的影响
第43-44页
·漂移区浓度对电容特性的影响
第44-47页
第五章 VDMOS新结构
第47-53页
·虚拟栅结构简介
第47-48页
·新结构器件及其特性分析
第48-53页
·新结构的提出
第48-49页
·电容特性
第49-50页
·击穿特性
第50-53页
第六章 结束语
第53-55页
·总结
第53页
·未来计划
第53-55页
致谢
第55-56页
参考文献
第56-59页
研究成果
第59-60页
论文编号
BS749334
,这篇论文共
60
页
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