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射频VDMOS器件结构研究
 
     论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-15页
   ·VDMOS器件简介第7-11页
     ·功率器件发展历史第7-10页
     ·VDMOS器件结构和特点第10-11页
     ·VDMOS器件研究进展第11页
   ·VDMOS研究方向第11-12页
   ·本论文的研究意义和研究内容第12-15页
第二章 功率VDMOS准饱和特性研究第15-27页
   ·准饱和特性机理第15-21页
     ·准饱和特性的危害第18页
     ·P体间距(栅宽)对准饱和特性的影响第18-20页
     ·外延层掺杂浓度对准饱和特性的影响第20-21页
   ·准饱和特性的改善第21-25页
   ·本章小结第25-27页
第三章 VDMOS击穿特性研究第27-37页
   ·高压大电流VDMOS的Superjunction结构第27-30页
     ·超结理论基本原理第27-29页
     ·超结理论在应用中的缺陷第29-30页
   ·PFVDMOS结构简介第30-32页
   ·低压VDMOS击穿电压分析第32-33页
     ·击穿电压和外延层浓度的关系第32页
     ·击穿电压和沟道浓度的关系第32-33页
   ·阈值电压第33-37页
第四章 VDMOS射频特性研究第37-47页
   ·VDMOS与LDMOS在频率特性上的比较第37-39页
   ·影响跨导特性的因素第39-40页
     ·栅氧化层厚度对跨导的影响第39-40页
     ·外延层浓度对跨导的影响第40页
   ·影响VDMOS电容特性的因素第40-47页
     ·栅漏电容的构成第41-43页
     ·沟道浓度对电容特性的影响第43-44页
     ·漂移区浓度对电容特性的影响第44-47页
第五章 VDMOS新结构第47-53页
   ·虚拟栅结构简介第47-48页
   ·新结构器件及其特性分析第48-53页
     ·新结构的提出第48-49页
     ·电容特性第49-50页
     ·击穿特性第50-53页
第六章 结束语第53-55页
   ·总结第53页
   ·未来计划第53-55页
致谢第55-56页
参考文献第56-59页
研究成果第59-60页

 
 
论文编号BS749334,这篇论文共60
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