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工作在250-2000nm波段的过渡金属/介质光热转换薄膜的设计与制备 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-5页 | | abstract | 第5页 | | 第一章 绪论 | 第8-13页 | | 1.1 研究背景 | 第8-12页 | | 1.1.1 研究的应用 | 第8-9页 | | 1.1.2 国内外研究进展 | 第9-12页 | | 1.2 本文主要研究内容 | 第12-13页 | | 第二章 过渡金属/介质光热转换薄膜结构的理论设计 | 第13-30页 | | 2.1 研究的理论背景 | 第13-15页 | | 2.2 传输矩阵方法 | 第15-18页 | | 2.2.1 麦克斯韦方法 | 第16-17页 | | 2.2.2 亚伯拉罕方法 | 第17-18页 | | 2.3 过渡金属/介质光热转换薄膜结构的选取 | 第18-23页 | | 2.4 厚度对薄膜结构光学性能的影响 | 第23-27页 | | 2.4.1 介质层厚度对薄膜结构光学性质的影响 | 第23-25页 | | 2.4.2 金属吸收层厚度对薄膜结构光学性质的影响 | 第25-26页 | | 2.4.3 反射层厚度对过渡金属/介质光热转换薄膜结构光学性质的影响 | 第26-27页 | | 2.4.4 总结 | 第27页 | | 2.5 理论计算结果 | 第27-29页 | | 2.6 本章小结 | 第29-30页 | | 第三章 过渡金属/介质光热转换薄膜结构的制备及表征设备 | 第30-34页 | | 3.1 实验设备及材料 | 第30-32页 | | 3.1.1 过渡金属/介质光热转换薄膜制备设备 | 第30-31页 | | 3.1.2 退火设备 | 第31页 | | 3.1.3 实验材料 | 第31-32页 | | 3.2 过渡金属/介质光热转换薄膜的性能表征设备 | 第32-34页 | | 3.2.1 椭圆偏振光谱仪(SE) | 第32页 | | 3.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第32-33页 | | 3.2.3 X射线光电子能谱技术（XPS） | 第33-34页 | | 第四章 过渡金属/电介质光热转换薄膜的制备及表征 | 第34-49页 | | 4.1 薄膜形成过程及溅射镀膜原理 | 第34-37页 | | 4.1.1 薄膜的形成过程 | 第34-35页 | | 4.1.2 溅射镀膜原理 | 第35-37页 | | 4.2 基片清洗 | 第37页 | | 4.3 过渡金属/介质光热转换薄膜的制备 | 第37-38页 | | 4.4 实验参数定标 | 第38-41页 | | 4.5 实验参数列表 | 第41-42页 | | 4.6 退火实验流程 | 第42-43页 | | 4.7 过渡金属/介质光热转换薄膜结构性能分析 | 第43-47页 | | 4.7.1 光学吸收率 | 第44页 | | 4.7.2 热辐射率 | 第44-45页 | | 4.7.3 变角度反射光谱 | 第45-46页 | | 4.7.4 热稳定性 | 第46-47页 | | 4.7.5 表面形貌 | 第47页 | | 4.8 本章小结 | 第47-49页 | | 第五章 过渡金属/介质多层膜结构的改进 | 第49-59页 | | 5.1 理论分析 | 第49-52页 | | 5.1.1 常用的光学色散模型 | 第49-51页 | | 5.1.2 有效介质近似 | 第51-52页 | | 5.2 混合膜的制备及表征 | 第52-56页 | | 5.2.1 实验计划 | 第52-53页 | | 5.2.2 结果分析 | 第53-56页 | | 5.3 混合膜结构的性能 | 第56-58页 | | 5.4 本章小结 | 第58-59页 | | 第六章 总结与展望 | 第59-60页 | | 参考文献 | 第60-63页 | | 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第63-64页 | | 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第64-65页 | | 附录3 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第65-66页 | | 致谢 | 第66页 |
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论文编号BS2701637，这篇论文共66页
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