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面向曲面抛光的多方向性轨迹规划 |
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论文目录 |
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摘要 | 第5-6页 | Abstract | 第6-7页 | 第一章 绪论 | 第11-27页 | 1.1 课题背景及研究意义 | 第11-13页 | 1.2 国内外研究现状及分析 | 第13-24页 | 1.2.1 抛光轨迹规划方法研究现状 | 第14-20页 | 1.2.2 抛光理论模型研究现状 | 第20-24页 | 1.3 主要工作及文章结构 | 第24-27页 | 1.3.1 课题来源 | 第24-25页 | 1.3.2 论文主要工作 | 第25-26页 | 1.3.3 文章结构 | 第26-27页 | 第二章 基于网格曲面参数化的抛光轨迹生成 | 第27-45页 | 2.1 引言 | 第27页 | 2.2 三维网格曲面的参数化 | 第27-32页 | 2.2.1 保角参数化算法 | 第28-31页 | 2.2.2 参数化结果 | 第31-32页 | 2.2.3 映射变形 | 第32页 | 2.3 抛光轨迹生成 | 第32-38页 | 2.3.1 平面参数域内的轨迹点生成 | 第33-36页 | 2.3.2 平面轨迹点的逆映射 | 第36-37页 | 2.3.3 偏置轨迹的生成 | 第37-38页 | 2.4 抛光材料去除深度模型 | 第38-42页 | 2.5 抛光轨迹仿真 | 第42-44页 | 2.6 本章小结 | 第44-45页 | 第三章 基于余弦和恒半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制 | 第45-61页 | 3.1 引言 | 第45页 | 3.2 余弦轨迹 | 第45-51页 | 3.2.1 参数化模型 | 第45-47页 | 3.2.2 轨迹生成 | 第47-48页 | 3.2.3 幅值与周期参数优化 | 第48-51页 | 3.3 恒半径摆线轨迹 | 第51-59页 | 3.3.1 参数化模型 | 第51-55页 | 3.3.2 轨迹生成 | 第55-56页 | 3.3.3 半径与步距参数优化 | 第56-59页 | 3.4 轨迹对比 | 第59-60页 | 3.5 本章小结 | 第60-61页 | 第四章 基于变半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制 | 第61-76页 | 4.1 引言 | 第61页 | 4.2 变半径摆线轨迹的参数化模型 | 第61-64页 | 4.3 变半径摆线轨迹生成 | 第64-69页 | 4.3.1 中心轴线生成 | 第65-67页 | 4.3.2 平面摆线轨迹生成 | 第67-68页 | 4.3.3 平面摆线轨迹的逆映射 | 第68-69页 | 4.4 参数优化 | 第69-74页 | 4.4.1 摆线步距优化 | 第69-71页 | 4.4.2 进给速度优化 | 第71-74页 | 4.5 本章小结 | 第74-76页 | 第五章 抛光轨迹实验验证与分析 | 第76-92页 | 5.1 引言 | 第76页 | 5.2 实验平台介绍 | 第76-79页 | 5.2.1 仿真软件平台 | 第76-78页 | 5.2.2 实验设备 | 第78-79页 | 5.3 抛光轨迹对比实验 | 第79-91页 | 5.3.1 实验过程介绍 | 第79-81页 | 5.3.2 余弦优化对比实验 | 第81-84页 | 5.3.3 恒半径摆线优化对比实验 | 第84-87页 | 5.3.4 变半径摆线优化对比实验 | 第87-89页 | 5.3.5 五种轨迹对比实验 | 第89-91页 | 5.4 本章小结 | 第91-92页 | 总结与展望 | 第92-94页 | 全文总结 | 第92-93页 | 主要创新点 | 第93页 | 未来工作展望 | 第93-94页 | 参考文献 | 第94-99页 | 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第99-100页 | 致谢 | 第100-101页 | 附件 | 第101页 |
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