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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--面向曲面抛光的多方向性轨迹规划
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面向曲面抛光的多方向性轨迹规划
 
     论文目录
 
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-27页
    1.1 课题背景及研究意义第11-13页
    1.2 国内外研究现状及分析第13-24页
        1.2.1 抛光轨迹规划方法研究现状第14-20页
        1.2.2 抛光理论模型研究现状第20-24页
    1.3 主要工作及文章结构第24-27页
        1.3.1 课题来源第24-25页
        1.3.2 论文主要工作第25-26页
        1.3.3 文章结构第26-27页
第二章 基于网格曲面参数化的抛光轨迹生成第27-45页
    2.1 引言第27页
    2.2 三维网格曲面的参数化第27-32页
        2.2.1 保角参数化算法第28-31页
        2.2.2 参数化结果第31-32页
        2.2.3 映射变形第32页
    2.3 抛光轨迹生成第32-38页
        2.3.1 平面参数域内的轨迹点生成第33-36页
        2.3.2 平面轨迹点的逆映射第36-37页
        2.3.3 偏置轨迹的生成第37-38页
    2.4 抛光材料去除深度模型第38-42页
    2.5 抛光轨迹仿真第42-44页
    2.6 本章小结第44-45页
第三章 基于余弦和恒半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制第45-61页
    3.1 引言第45页
    3.2 余弦轨迹第45-51页
        3.2.1 参数化模型第45-47页
        3.2.2 轨迹生成第47-48页
        3.2.3 幅值与周期参数优化第48-51页
    3.3 恒半径摆线轨迹第51-59页
        3.3.1 参数化模型第51-55页
        3.3.2 轨迹生成第55-56页
        3.3.3 半径与步距参数优化第56-59页
    3.4 轨迹对比第59-60页
    3.5 本章小结第60-61页
第四章 基于变半径摆线的抛光轨迹及其工艺控制第61-76页
    4.1 引言第61页
    4.2 变半径摆线轨迹的参数化模型第61-64页
    4.3 变半径摆线轨迹生成第64-69页
        4.3.1 中心轴线生成第65-67页
        4.3.2 平面摆线轨迹生成第67-68页
        4.3.3 平面摆线轨迹的逆映射第68-69页
    4.4 参数优化第69-74页
        4.4.1 摆线步距优化第69-71页
        4.4.2 进给速度优化第71-74页
    4.5 本章小结第74-76页
第五章 抛光轨迹实验验证与分析第76-92页
    5.1 引言第76页
    5.2 实验平台介绍第76-79页
        5.2.1 仿真软件平台第76-78页
        5.2.2 实验设备第78-79页
    5.3 抛光轨迹对比实验第79-91页
        5.3.1 实验过程介绍第79-81页
        5.3.2 余弦优化对比实验第81-84页
        5.3.3 恒半径摆线优化对比实验第84-87页
        5.3.4 变半径摆线优化对比实验第87-89页
        5.3.5 五种轨迹对比实验第89-91页
    5.4 本章小结第91-92页
总结与展望第92-94页
    全文总结第92-93页
    主要创新点第93页
    未来工作展望第93-94页
参考文献第94-99页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第99-100页
致谢第100-101页
附件第101页

 
 
论文编号BS3810037,这篇论文共101
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