| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 硅及碳微纳结构的研究进展 | 第11-17页 |
| 1.2.1 硅微纳结构的研究进展 | 第11-14页 |
| 1.2.2 碳微纳结构的研究进展 | 第14-17页 |
| 1.3 微型超级电容电极结构的研究进展 | 第17-22页 |
| 1.4 选题意义及研究内容 | 第22-26页 |
| 1.4.1 选题意义 | 第22-23页 |
| 1.4.2 课题的研究内容 | 第23-26页 |
| 第二章 实验加工方法及实验设备 | 第26-36页 |
| 2.1 实验加工方法 | 第26-30页 |
| 2.1.1 典型的湿法刻蚀加工方法 | 第26-27页 |
| 2.1.2 典型的C-MEMS工艺 | 第27-30页 |
| 2.2 实验设备 | 第30-34页 |
| 2.3 结构形貌及超级电容性能的表征方法 | 第34-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 基于纳米点蚀和湿法刻蚀的硅微纳分级结构加工及超级电容性能研究 | 第36-46页 |
| 3.1 实验过程及加工机理 | 第36-39页 |
| 3.1.1 金字塔状硅微纳分级结构的加工工艺研究 | 第36-38页 |
| 3.1.2 纳米点蚀以及湿法刻蚀的机理研究 | 第38-39页 |
| 3.2 金字塔状硅微纳分级结构的表征 | 第39-43页 |
| 3.2.1 点蚀时间对硅微纳分级结构的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.2 银纳米薄膜厚度对硅微纳分级结构的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.3 不同掺杂类型对硅微纳分级结构的影响 | 第41-43页 |
| 3.3 硅微纳分级结构与硅微结构的电化学性能对比 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 基于氧等离子体刻蚀和C-MEMS的碳微纳分级结构加工及超级电容性能研究 | 第46-56页 |
| 4.1 碳微纳分级结构的加工工艺研究 | 第46-51页 |
| 4.2 光刻胶及碳微纳分级结构的表征 | 第51-52页 |
| 4.2.1 不同刻蚀时间及厚度对光刻胶微纳分级结构形貌的影响 | 第51页 |
| 4.2.2 不同刻蚀时间及厚度对碳微纳分级结构形貌的影响 | 第51-52页 |
| 4.3 碳微纳分级结构的拉曼光谱表征 | 第52-53页 |
| 4.4 碳微纳分级结构与碳微结构的电化学性能对比 | 第53-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 基于电化学沉积的C/MnO_2微纳分级结构加工及超级电容性能研究 | 第56-67页 |
| 5.1 C/MnO_2 微纳分级结构的加工工艺研究 | 第56-57页 |
| 5.2 不同沉积时间的C/MnO_2微纳分级结构的形貌分析 | 第57-58页 |
| 5.3 C/MnO_2 微纳分级结构的成分分析 | 第58-59页 |
| 5.4 C/MnO_2 微纳分级结构的电化学性能分析 | 第59-66页 |
| 5.4.1 循环伏安测试 | 第59-61页 |
| 5.4.2 恒电流充放电测试 | 第61-64页 |
| 5.4.3 交流阻抗性能测试 | 第64-65页 |
| 5.4.4 循环性能测试 | 第65-66页 |
| 5.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论与展望 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第78页 |
广告服务 
