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等离子喷涂耐高温吸波涂层的制备及性能研究 |
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论文目录 |
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摘要 | 第4-6页 | Abstract | 第6-8页 | 论文的主要创新与贡献 | 第9-14页 | 第1章 绪论 | 第14-34页 | 1.1 引言 | 第14-15页 | 1.2 雷达吸波材料的工作原理及分类 | 第15-16页 | 1.2.1 雷达吸波材料工作原理 | 第15页 | 1.2.2 雷达吸波材料分类 | 第15-16页 | 1.3 高温吸收剂研究进展 | 第16-28页 | 1.3.1 碳类吸收剂 | 第16-24页 | 1.3.2 SiC吸收剂 | 第24-26页 | 1.3.3 其他吸收剂 | 第26-28页 | 1.4 等离子喷涂技术 | 第28-30页 | 1.4.1 等离子喷涂技术介绍 | 第28-29页 | 1.4.2 等离子喷涂的特点 | 第29页 | 1.4.3 影响等离子喷涂涂层质量的主要工艺参数 | 第29-30页 | 1.5 论文选题背景及选题意义 | 第30-31页 | 1.6 论文的主要研究内容 | 第31-34页 | 第2章 实验及研究方法 | 第34-44页 | 2.1 引言 | 第34页 | 2.2 实验用原材料 | 第34-37页 | 2.2.1 MAS | 第34-35页 | 2.2.2 CB | 第35-36页 | 2.2.3 MWCNTs | 第36页 | 2.2.4 Ti_3SiC_2 | 第36-37页 | 2.3 实验方案与技术路线 | 第37页 | 2.4 实验设备 | 第37-39页 | 2.4.1 球磨机 | 第37页 | 2.4.2 喷雾干燥机 | 第37-38页 | 2.4.3 等离子喷涂设备 | 第38-39页 | 2.5 涂层性能分析 | 第39-44页 | 2.5.1 涂层显微结构分析 | 第39页 | 2.5.2 涂层的相组成分析 | 第39-40页 | 2.5.3 激光粒度分析 | 第40页 | 2.5.4 涂层密度及孔隙率分析 | 第40页 | 2.5.5 涂层显微硬度分析 | 第40-41页 | 2.5.6 涂层介电性能分析 | 第41-42页 | 2.5.7 涂层吸波性能分析 | 第42-44页 | 第3章 碳类吸收剂吸波涂层的制备及性能研究 | 第44-76页 | 3.1 引言 | 第44页 | 3.2 涂层制备过程 | 第44-51页 | 3.2.1 喷涂喂料的制备 | 第44-47页 | 3.2.2 等离子喷涂工艺 | 第47-51页 | 3.3 等离子喷涂CB/MAS吸波涂层性能研究 | 第51-62页 | 3.3.1 涂层微观结构 | 第52-53页 | 3.3.2 涂层物相 | 第53-54页 | 3.3.3 涂层密度及孔隙率分析 | 第54-55页 | 3.3.4 涂层显微硬度 | 第55-57页 | 3.3.5 涂层电磁参数 | 第57-59页 | 3.3.6 涂层吸波性能 | 第59-62页 | 3.4 等离子喷涂MWCNTs/MAS吸波涂层性能研究 | 第62-72页 | 3.4.1 涂层微观结构 | 第62-63页 | 3.4.2 涂层物相 | 第63-64页 | 3.4.3 涂层密度及孔隙率 | 第64-65页 | 3.4.4 涂层显微硬度 | 第65-67页 | 3.4.5 涂层电磁参数 | 第67-68页 | 3.4.6 涂层吸波性能 | 第68-72页 | 3.5 CB/MAS与MWCNTs/MAS吸波涂层性能比较 | 第72-73页 | 3.6 本章小结 | 第73-76页 | 第4章 防氧化玻璃涂层的制备及性能研究 | 第76-94页 | 4.1 引言 | 第76页 | 4.2 吸波涂层的高温氧化行为 | 第76-80页 | 4.2.1 吸波涂层的高温氧化性能测试 | 第76-77页 | 4.2.2 吸波涂层的氧化失重率 | 第77-78页 | 4.2.3 吸波涂层氧化后的复介电常数 | 第78-80页 | 4.3 单层防氧化玻璃层研究 | 第80-83页 | 4.3.1 玻璃层的制备过程 | 第80页 | 4.3.2 玻璃层微观结构 | 第80-81页 | 4.3.3 玻璃层防氧化性能 | 第81-83页 | 4.4 双层防氧化玻璃层研究 | 第83-89页 | 4.4.1 玻璃层制备过程 | 第83页 | 4.4.2 玻璃层微观结构 | 第83-84页 | 4.4.3 玻璃层防氧化性能 | 第84-86页 | 4.4.4 多次刷涂玻璃层防氧化性能 | 第86-89页 | 4.5 吸波涂层反射率实测结果 | 第89-91页 | 4.6 本章小结 | 第91-94页 | 第5章 Ti_3SiC_2/ MAS吸波涂层的制备及性能研究 | 第94-118页 | 5.1 引言 | 第94页 | 5.2 Ti_3SiC_2/MAS吸波涂层制备过程 | 第94-95页 | 5.3 喷涂参数对Ti_3SiC_2/ MAS吸波涂层性能影响 | 第95-103页 | 5.3.1 不同CPSP值喷涂涂层微观结构 | 第96-97页 | 5.3.2 不同CPSP值喷涂涂层物相 | 第97-98页 | 5.3.3 不同CPSP值喷涂涂层密度及孔隙率 | 第98-99页 | 5.3.4 不同CPSP值喷涂涂层显微硬度 | 第99-100页 | 5.3.5 不同CPSP值喷涂涂层电磁参数 | 第100-102页 | 5.3.6 不同CPSP值喷涂涂层吸波性能 | 第102-103页 | 5.4 涂层微观结构 | 第103-104页 | 5.5 涂层物相 | 第104-105页 | 5.6 涂层密度及孔隙率 | 第105-106页 | 5.7 涂层显微硬度 | 第106-107页 | 5.8 涂层电磁参数 | 第107-110页 | 5.9 涂层吸波性能 | 第110-113页 | 5.10 涂层高温电磁参数及吸波性能 | 第113-116页 | 5.10.1 涂层高温电磁参数 | 第114-115页 | 5.10.2 涂层高温吸波性能 | 第115-116页 | 5.11 本章小结 | 第116-118页 | 结论 | 第118-120页 | 参考文献 | 第120-136页 | 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第136-138页 | 致谢 | 第138-139页 |
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