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含脲/硫脲基取代聚乙炔的合成及阴离子识别性能 |
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论文目录 |
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摘要 | 第1-6页 | Abstract | 第6-8页 | 目录 | 第8-11页 | 第一章 绪论 | 第11-31页 | ·引言 | 第11-12页 | ·取代聚乙炔及其光电性能 | 第12-16页 | ·聚乙炔概述 | 第12-13页 | ·聚乙炔衍生物的光学性质 | 第13-16页 | ·含脲/硫脲的阴离子受体 | 第16-23页 | ·阴离子的结构特点 | 第16-17页 | ·阴离子的识别 | 第17-18页 | ·脲/硫脲类阴离子受体研究进展 | 第18-23页 | ·聚合物阴离子受体 | 第23-28页 | ·聚合物阴离子受体 | 第23-25页 | ·别构效应 | 第25-27页 | ·基于正别构效应聚合物阴离子受体 | 第27-28页 | ·本课题的研究内容及意义 | 第28-31页 | ·研究意义 | 第28页 | ·研究内容 | 第28-30页 | ·论文创新点 | 第30-31页 | 第二章 含脲基的取代聚乙炔及其阴离子识别性能 | 第31-55页 | ·引言 | 第31-32页 | ·实验部分 | 第32-37页 | ·原料与试剂 | 第32页 | ·设备与仪器 | 第32-33页 | ·单体的合成与表征 | 第33-34页 | ·催化剂的合成 | 第34页 | ·聚合反应 | 第34-35页 | ·聚合物结构表征 | 第35页 | ·阴离子识别实验 | 第35-37页 | ·结果与讨论 | 第37-54页 | ·单体合成与表征 | 第37-39页 | ·聚合物的合成与表征 | 第39-41页 | ·不同溶剂的聚合物溶液紫外-可见吸收光谱 | 第41-43页 | ·阴离子识别性能 | 第43-45页 | ·脲基与氟离子的作用方式 | 第45-48页 | ·聚合物对阴离子的亲和力 | 第48-54页 | ·本章小结 | 第54-55页 | 第三章 含硫脲基的取代聚乙炔及其阴离子识别性能 | 第55-79页 | ·引言 | 第55-56页 | ·实验部分 | 第56-60页 | ·原料与试剂 | 第56页 | ·设备与仪器 | 第56-57页 | ·单体的合成与表征 | 第57-58页 | ·聚合反应 | 第58-59页 | ·聚合物结构表征 | 第59页 | ·阴离子识别实验 | 第59-60页 | ·结果与讨论 | 第60-77页 | ·单体和聚合物的合成与表征 | 第60-62页 | ·不同溶剂的聚合物溶液的吸收光谱 | 第62-64页 | ·阴离子识别性能 | 第64-66页 | ·受体与阴离子的作用方式 | 第66-68页 | ·聚合物与阴离子的络合比 | 第68-69页 | ·硫脲基与阴离子结合能力 | 第69-77页 | ·本章小结 | 第77-79页 | 第四章 阴离子识别能力比较及机理探讨 | 第79-86页 | ·引言 | 第79页 | ·结果与讨论 | 第79-84页 | ·poly(1)和 poly(2)的比较与机理探讨 | 第79-81页 | ·poly(4)与 poly(3)及 poly(1)的比较与机理探讨 | 第81-83页 | ·与已报道聚合物受体比较 | 第83-84页 | ·本章小结 | 第84-86页 | 结论 | 第86-87页 | 参考文献 | 第87-96页 | 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第96-97页 | 致谢 | 第97-98页 | 答辩委员会对论文的评定意见 | 第98页 |
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