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DBD等离子体诱导涡结构控制附面层流动研究
 
     论文目录
 
摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
符号表第8-15页
第1章 绪论第15-37页
    1.1 课题来源第15页
    1.2 课题背景及研究的目的和意义第15-16页
    1.3 附面层流动分离控制第16-25页
        1.3.1 附面层流动分离问题第16-19页
        1.3.2 流动控制技术的应用第19-25页
    1.4 DBD等离子体流动控制技术及其研究进展第25-36页
        1.4.1 等离子体概述第25页
        1.4.2 等离子体流动控制技术发展历程第25-26页
        1.4.3 等离子体激励器气动激励及其机理第26-29页
        1.4.4 DBD等离子体流动控制研究第29-32页
        1.4.5 DBD等离子体数值仿真模型第32-34页
        1.4.6 等离子体激励器改善气膜冷却流场第34-36页
    1.5 论文工作的目的和主要内容第36-37页
第2章 等离子体影响平板近壁区流场的PIV实验研究第37-52页
    2.1 前言第37页
    2.2 实验装置及测量方案第37-44页
        2.2.1 实验风洞第37-38页
        2.2.2 PIV测试系统第38-42页
        2.2.3 激励器电源、实验平板以及测量方案第42-44页
    2.3 实验结果及分析第44-51页
        2.3.1 近壁区速度分布第44-48页
        2.3.2 等离子体激励器附近区域流场分布第48-50页
        2.3.3 等离子体激励器附近区域流场涡量分析第50-51页
    2.4 本章小结第51-52页
第3章 DBD等离子体与流动耦合模型的建立及求解第52-69页
    3.1 前言第52-53页
    3.2 N-S方程组的求解第53-60页
        3.2.1 亚格子模型第53-56页
        3.2.2 亚格子模型验证第56-60页
    3.3 等离子体激励器与流动耦合模型的建立第60-68页
        3.3.1 等离子体激励器简化模型第60-62页
        3.3.2 用户自定义函数第62-63页
        3.3.3 简化模型校正第63-68页
    3.4 本章小结第68-69页
第4章 非定常等离子体激励下的流场结构分布研究第69-92页
    4.1 前言第69页
    4.2 物理模型及计算初边界条件第69-71页
        4.2.1 几何模型第69-70页
        4.2.2 等离子体激励器激励参数第70-71页
    4.3 DBD等离子体非定常诱导特性第71-82页
        4.3.1 激励强度第73-77页
        4.3.2 激励频率第77-80页
        4.3.3 来流速度第80-82页
    4.4 凸包分离的流动控制及流动影响机理探讨第82-90页
        4.4.1 流动分离流场分布第83-85页
        4.4.2 流动参数分布第85-87页
        4.4.3 等离子体激励器对附面层分离的影响机理探讨第87-90页
    4.5 本章小结第90-92页
第5章 等离子体诱导流向涡的结构特性及其应用研究第92-126页
    5.1 前言第92页
    5.2 DBD等离子体激励器诱导流向涡第92-114页
        5.2.1 DBD涡流发生器仿真模型第92-94页
        5.2.2 诱导涡流场结构与流场特性第94-106页
        5.2.3 不同激励条件下流场结构对比第106-114页
    5.3 等离子体激励器诱导流向涡对气膜冷却的影响第114-125页
        5.3.1 气膜冷却流场计算模型第114-117页
        5.3.2 气膜冷却流场分布特性第117-119页
        5.3.3 DBD等离子体激励器对小孔气膜冷却影响探讨第119-125页
    5.4 本章小结第125-126页
结论第126-129页
参考文献第129-139页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第139-142页
致谢第142-143页
个人简历第143页

 
 
论文编号BS2706439,这篇论文共143
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