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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--集成电路行业废水处理新工艺及中水回用的研究与实践
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集成电路行业废水处理新工艺及中水回用的研究与实践
 
     论文目录
 
摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 前言第11-20页
   ·国内半导体产业发展概况第11-12页
   ·芯片制造工艺第12-15页
   ·芯片制造中使用的化学试剂及特殊气体第15-16页
   ·半导体制造的废水种类与排放标准第16-20页
第二章 文献综述第20-40页
   ·废水处理系统简介第20-38页
     ·酸碱废水中和系统(Neutralization)第20-22页
     ·含氟废水处理系统(Fluoride Treatment System)第22-25页
     ·含铬废水处理系统(Chromium Treatment System)第25-27页
     ·污水处理系统(Bio-chemical system)第27-28页
     ·氨氮处理系统(Ammonia Removal System)第28-33页
     ·有机废水处理系统及水回收系统(OWWT & Water Reuse System)第33-38页
   ·研究的内容第38-39页
   ·技术路线图第39-40页
第三章 含铬废水处理新工艺开发第40-47页
   ·现有工艺介绍第40页
   ·问题及理论分析第40-43页
     ·含铬废水处理的化学反应原理分析第41页
     ·pH对反应方向影响的能斯特方程计算分析第41-43页
   ·实验验证第43-45页
     ·实验原材料第43页
     ·还原实验结果第43-45页
   ·改造的思路及效果分析第45-46页
   ·小结第46-47页
第四章 含氨废水处理工艺的改造第47-53页
   ·现有工艺介绍第47-48页
   ·问题分析、对策及讨论第48-51页
   ·工艺确定第51-52页
   ·小结第52-53页
第五章 中水回用措施、研究及运用第53-66页
   ·设备节水的应用第53-55页
   ·中水回收处理第55-65页
     ·超纯水排水回收第55-56页
     ·提高纯水回收率的方法第56-58页
     ·其它废水的回收第58-59页
     ·冷却塔运转状况分析第59-65页
   ·小结第65-66页
第六章 结论与展望第66-67页
   ·结论第66页
   ·展望第66-67页
参考文献第67-69页
致谢第69-70页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第70页

 
 
论文编号BS1319254,这篇论文共70
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