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脉冲偏压协同射频等离子体对PET膜的表面改性 |
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论文目录 |
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摘要 | 第5-7页 | ABSTRACT | 第7-8页 | 第一章 绪论 | 第11-29页 | 1.1 等离子体概述 | 第11-18页 | 1.1.1 等离子体的基本概念 | 第11页 | 1.1.2 低温等离子体的基本概念及分类 | 第11-16页 | 1.1.3 低温等离子体材料表面改性原理 | 第16-18页 | 1.2 柔性电子技术概述 | 第18-21页 | 1.3 柔性基材的等离子体表面改性研究现状 | 第21-23页 | 1.4 本文的创作思路及内容体系 | 第23-25页 | 1.4.1 研究目标 | 第23-24页 | 1.4.2 研究内容 | 第24页 | 1.4.3 研究思路和创新 | 第24-25页 | 参考文献 | 第25-29页 | 第二章 实验设备、实验流程及测试方法 | 第29-36页 | 2.1 脉冲偏压协同射频等离子体材料表面处理系统 | 第29-30页 | 2.2 实验流程 | 第30-31页 | 2.3 检测仪器及测试方法 | 第31-35页 | 2.3.1 接触角测试 | 第31-32页 | 2.3.2 场发射扫描电子显微镜 | 第32页 | 2.3.3 原子力显微镜 | 第32-33页 | 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第33页 | 2.3.5 朗缪尔探针诊断 | 第33页 | 2.3.6 发射光谱 | 第33-34页 | 2.3.7 剥离强度测试 | 第34-35页 | 参考文献 | 第35-36页 | 第三章 等离子体诊断 | 第36-48页 | 3.1 等离子体诊断简介 | 第36-40页 | 3.1.1 Langmuir探针 | 第36-39页 | 3.1.2 光谱诊断 | 第39-40页 | 3.2 朗缪尔探针诊断 | 第40-43页 | 3.3 发射光谱诊断 | 第43-46页 | 3.3.1 连续放电模式 | 第43-44页 | 3.3.2 DC脉冲偏压对发射光谱的影响 | 第44-46页 | 3.4 本章小结 | 第46-47页 | 参考文献 | 第47-48页 | 第四章 偏压与RF放电作用对PET膜表面性能的的影响 | 第48-58页 | 4.1 DC脉冲偏压协同作用效果 | 第48-52页 | 4.1.1 PET膜表面接触角分析 | 第48-49页 | 4.1.2 FESEM测试结果与分析 | 第49-50页 | 4.1.3 XPS测试结果与分析 | 第50-52页 | 4.2 脉冲调制频率对处理效果的影响 | 第52-55页 | 4.2.1 PET膜表面接触角分析 | 第52-53页 | 4.2.2 PET膜表面形貌分析 | 第53-54页 | 4.2.3 发射光谱强度随偏压的变化 | 第54页 | 4.2.4 时效性分析 | 第54-55页 | 4.3 本章小结 | 第55-56页 | 参考文献 | 第56-58页 | 第五章 活性种浓度对PET膜表面改性的影响 | 第58-68页 | 5.1 实验设置 | 第58-60页 | 5.2 PET膜表面改性结果与分析 | 第60-66页 | 5.2.1 PET膜表面接触角分析 | 第60-61页 | 5.2.2 PET膜表面形貌分析 | 第61-62页 | 5.2.3 XPS分析 | 第62-65页 | 5.2.4 发射光谱随着偏压延迟的变化 | 第65页 | 5.2.5 时效性分析 | 第65-66页 | 5.3 本章小结 | 第66-67页 | 参考文献 | 第67-68页 | 第六章 结论 | 第68-70页 | 硕士期间发表文章 | 第70-71页 | 致谢 | 第71页 |
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