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少层石墨烯粘着磨损机理的分子模拟研究
 
     论文目录
 
中文摘要第3-4页
英文摘要第4-5页
1 绪论第8-14页
    1.1 课题背景及意义第8页
    1.2 石墨烯简介第8-9页
    1.3 石墨烯的摩擦磨损特性研究现状第9-11页
    1.4 氢环境下石墨烯的摩擦磨损特性研究现状第11-13页
        1.4.1 氢原子在石墨烯表面的吸附第11-12页
        1.4.2 氢吸附对石墨烯摩擦磨损特性的影响第12-13页
    1.5 本文的主要研究内容第13-14页
2 少层石墨烯薄膜磨损行为的分子动力学模拟第14-25页
    2.1 分子动力学模拟简介第14-18页
        2.1.1 分子动力学模拟的基本原理第14-17页
        2.1.2 分子动力学模拟软件第17-18页
    2.2 真空环境下的磨损行为模拟第18-21页
        2.2.1 模型的建立第18-19页
        2.2.2 AIREBO势函数第19-20页
        2.2.3 模拟过程简述第20-21页
    2.3 氢环境下的磨损行为模拟第21-23页
        2.3.1 模型的建立第21-22页
        2.3.2 AIREBO-M势函数第22页
        2.3.3 模拟过程简述第22-23页
    2.4 磨损量、界面键和层间键等的计算第23-24页
    2.5 本章小结第24-25页
3 少层石墨烯薄膜的粘着磨损行为及机理第25-40页
    3.1 纳米粘着磨损行为第25-30页
        3.1.1 粘着磨损形式第25-28页
        3.1.2 磨损过程中的摩擦力变化第28-30页
    3.2 界面键和层间键的作用第30-34页
        3.2.1 界面键、层间键与磨损的关系第30-33页
        3.2.2 不同算例中的界面键、层间键演变第33-34页
    3.3 粘着磨损的发生条件第34-39页
        3.3.1 粘着磨损发生的钝化条件第34-35页
        3.3.2 粘着磨损发生的临界载荷第35-37页
        3.3.3 探针与石墨烯接触状态的变化第37-39页
    3.4 本章小结第39-40页
4 氢环境下少层石墨烯薄膜的粘着磨损行为与机理第40-54页
    4.1 氢吸附促使磨损空洞扩展第40-47页
        4.1.1 真空环境下的磨损空洞扩展第40-42页
        4.1.2 氢吸附促使磨损空洞扩展第42-46页
        4.1.3 两种环境下的摩擦力、磨损量比较第46-47页
    4.2 氢钝化作用对磨损行为的抑制第47-53页
        4.2.1 真空环境下的磨损行为第47-48页
        4.2.2 氢钝化作用对磨损行为的抑制第48-50页
        4.2.3 两种环境下的摩擦力、磨损量比较第50-51页
        4.2.4 不同载荷下的氢钝化作用效果第51-53页
    4.3 本章小结第53-54页
5 结论与展望第54-56页
    5.1 结论第54-55页
    5.2 展望第55-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-65页
附录第65页
    A.作者在攻读硕士学位期间发表的论文第65页
    B.作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目第65页

 
 
论文编号BS4184942,这篇论文共65
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