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具有相变特性的氧化钒薄膜制备与光学特性研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-4页 | | ABSTRACT | 第4-9页 | | 第一章 绪论 | 第9-19页 | | ·课题背景介绍 | 第9-10页 | | ·氧化钒薄膜的应用领域 | 第10-17页 | | ·非制冷红外探测器 | 第11-14页 | | ·光开关及光存储 | 第14-16页 | | ·氧化钒薄膜在太赫兹领域的应用 | 第16-17页 | | ·本论文的研究意义、目的、内容 | 第17-19页 | | 第二章 氧化钒的理化性质与制备技术 | 第19-40页 | | ·氧化钒的晶体结构与性质 | 第19-24页 | | ·五氧化二钒(V_20_5) | 第20-21页 | | ·二氧化钒(V0_2) | 第21-23页 | | ·三氧化二钒(V_20_3) | 第23-24页 | | ·氧化钒薄膜的电阻温度系数 | 第24-25页 | | ·V0_2 的相变特性及理论 | 第25-31页 | | ·氧化钒薄膜的制备方法 | 第31-35页 | | ·真空蒸发镀膜法 | 第31-32页 | | ·溅射镀膜 | 第32-34页 | | ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第34页 | | ·脉冲激光沉积 | 第34-35页 | | ·氧化钒薄膜电学、光学测试方法 | 第35-37页 | | ·电学特性测试 | 第35-36页 | | ·氧化钒薄膜傅立叶变换红外光谱测试 | 第36-37页 | | ·氧化钒薄膜太赫兹波段开关特性测试 | 第37页 | | ·氧化钒薄膜的分析与表征 | 第37-40页 | | ·X 射线衍射法(XRD) | 第38页 | | ·X 射线光电子能谱法(XPS) | 第38-39页 | | ·扫描电子显微镜法(SEM)与原子力显微镜法(AFM) | 第39-40页 | | 第三章 金属热氧化法制备氧化钒薄膜 | 第40-49页 | | ·氧化钒薄膜的制备 | 第40-42页 | | ·氧化钒薄膜电学性能测试分析 | 第42-44页 | | ·氧化钒薄膜理化分析 | 第44-48页 | | ·本章小结 | 第48-49页 | | 第四章 磁控溅射结合快速热处理制备氧化钒薄膜 | 第49-70页 | | ·磁控反应溅射制备氧化钒薄膜 | 第49-52页 | | ·氧化钒薄膜化学组分分析 | 第52-55页 | | ·氧化钒薄膜快速热处理与相变特性 | 第55-58页 | | ·相变氧化钒薄膜组分及结晶状态分析 | 第58-61页 | | ·氧化钒热致相变热力学讨论 | 第61-64页 | | ·变温快速热处理工艺研究 | 第64-69页 | | ·本章小结 | 第69-70页 | | 第五章 双离子束溅射制备氧化钒薄膜 | 第70-79页 | | ·具有相变特性的氧化钒薄膜制备 | 第70-75页 | | ·双离子束溅射沉积氧化钒薄膜 | 第70-72页 | | ·氮气环境热处理 | 第72-75页 | | ·红外光学测试 | 第75-77页 | | ·氧化钒薄膜红外光学相变特性 | 第75-77页 | | ·氧化钒薄膜傅立叶红外光谱信息 | 第77页 | | ·本章小结 | 第77-79页 | | 第六章 氧化钒薄膜在太赫兹波段的开关特性研究 | 第79-104页 | | ·硅基氧化钒薄膜太赫兹光开关 | 第79-96页 | | ·硅衬底制备氧化钒薄膜 | 第79-81页 | | ·氧化钒薄膜化学组分 | 第81-83页 | | ·氧化钒薄膜相变激励方式研究 | 第83页 | | ·氧化钒制备工艺对开关特性的影响 | 第83-88页 | | ·氧化钒光开关开关速度测试 | 第88-91页 | | ·氧化钒光开关插入损耗分析 | 第91-92页 | | ·氧化钒太赫兹频谱特性研究 | 第92-96页 | | ·激励光功率对氧化钒薄膜透射率的影响 | 第96页 | | ·Si0_2 衬底氧化钒光开关制备 | 第96-101页 | | ·Si0_2衬底上制备氧化钒薄膜 | 第97页 | | ·真空热处理对氧化钒薄膜开关特性的改善 | 第97-101页 | | ·太赫兹时域频谱与傅立叶变换红外光谱的比较 | 第101-102页 | | ·本章小结 | 第102-104页 | | 第七章 总结展望 | 第104-106页 | | ·全文总结 | 第104-105页 | | ·本文创新点 | 第105页 | | ·工作展望 | 第105-106页 | | 参考文献 | 第106-114页 | | 发表论文和参加科研情况说明 | 第114-115页 | | 致谢 | 第115页 |
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论文编号BS2393，这篇论文共115页
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