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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--外延NiO薄膜的结构及性能研究
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外延NiO薄膜的结构及性能研究
 
     论文目录
 
摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-22页
   ·引言第10-11页
   ·阻变存储器的基本结构第11-14页
   ·具有阻抗变化现象的薄膜材料第14-15页
   ·阻抗变化现象的机理分析第15-16页
   ·NiO 的结构第16-17页
   ·NiO 薄膜的研究现状第17-21页
     ·磁控溅射(Mganertnosputetring)第18-20页
     ·脉冲激光沉积(PLD)第20页
     ·其他方法第20-21页
   ·论文技术路线及方案第21-22页
第二章 NiO 薄膜的制备方法及表征原理第22-34页
   ·氧化镍薄膜的制备方法第22-25页
     ·氧化镍薄膜的制备方法第22-23页
     ·脉冲激光沉积(PLD)以及系统简介第23-24页
     ·PLD 制膜原理第24-25页
     ·PLD 设备系统简介第25页
   ·薄膜微结构的表征第25-31页
     ·X 射线衍射(XRD)第25-27页
     ·原子力显微镜(AFM)第27-29页
     ·原位反射式高能电子衍射第29-31页
   ·薄膜电学性能的测试方法第31-34页
     ·阻变存储器结构的选择第31-33页
     ·薄膜I-V 性能的测试第33-34页
第三章 蓝宝石衬底上生长 NiO 薄膜的工艺研究第34-43页
   ·靶材的制备及 NiO 薄膜的沉积第34-37页
     ·靶材的制备第34-35页
     ·靶材的分析第35-36页
     ·NiO 薄膜的沉积第36-37页
   ·沉积温度对 NiO 薄膜微结构的影响第37-40页
     ·NiO 薄膜的 XRD 分析第37-38页
     ·NiO 薄膜的 RHEED 分析第38-40页
   ·氧分压对 NiO 薄膜微结构的影响第40-42页
     ·NiO 薄膜的 XRD 分析第40-41页
     ·NiO 薄膜的 AFM 分析第41-42页
   ·本章小结第42-43页
第四章 Pt 电极对 NiO 薄膜微结构的影响研究第43-51页
   ·Pt 电极的制备第43-45页
     ·电极材料的选取第43-44页
     ·在蓝宝石衬底上制备 Pt 底电极第44-45页
   ·Pt 底电极对 NiO 薄膜结构的影响第45-50页
     ·沉积温度对 NiO/Pt 薄膜微结构的影响第46-47页
     ·氧分压对 NiO/Pt 薄膜微结构的影响第47-48页
     ·激光能量对 NiO/Pt 薄膜微结构的影响第48-50页
   ·本章小结第50-51页
第五章 NiO 薄膜的电学性能研究第51-57页
   ·不同沉积参数对 NiO 薄膜的 I-V 性能影响第51-55页
     ·沉积温度对 NiO 薄膜 I-V 性能的影响第51-53页
     ·氧分压对 NiO 薄膜 I-V 性能的影响第53-54页
     ·激光能量对 NiO 薄膜 I-V 性能的影响第54-55页
   ·NiO 薄膜阻抗变化现象的分析第55-56页
   ·本章小结第56-57页
第六章 主要结论第57-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-64页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第64-65页

 
 
论文编号BS517593,这篇论文共65
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