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纳米胶体射流抛光试验装置研制及工艺试验研究
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纳米胶体射流抛光试验装置研制及工艺试验研究
论文目录
摘要
第1-5页
Abstract
第5-8页
第1章 绪论
第8-18页
·课题的来源及意义
第8-9页
·课题的来源
第8页
·课题研究的背景及意义
第8-9页
·超光滑表面抛光技术研究现状
第9-15页
·直接接触抛光
第10-12页
·非接触抛光
第12-14页
·准接触抛光
第14-15页
·磨料射流抛光技术的研究现状
第15-16页
·磨料水射流抛光
第15-16页
·微磨料浆体射流抛光
第16页
·纳米胶体射流抛光的提出
第16-17页
·本文主要研究内容
第17-18页
第2章 纳米胶体射流抛光流场分析及数值模拟
第18-29页
·引言
第18页
·射流流场分析
第18-23页
·射流流速及动压分布
第18-19页
·射流基本参数的计算
第19-23页
·射流流场数值模拟
第23-28页
·几何模型及网格划分
第23-24页
·控制方程及参数设置
第24-26页
·数值模拟结果及分析
第26-28页
·本章小结
第28-29页
第3章 纳米胶体射流抛光系统的研制及性能验证
第29-38页
·引言
第29页
·纳米胶体射流抛光系统的研制
第29-34页
·纳米胶体射流抛光系统的设计方案
第29-30页
·纳米胶体射流抛光系统的研制
第30-33页
·纳米胶体射流抛光系统的集成
第33-34页
·纳米胶体射流抛光系统的性能验证
第34-37页
·去除率稳定性的试验验证
第34-35页
·超光滑表面抛光可行性的试验验证
第35-37页
·本章小结
第37-38页
第4章 纳米胶体射流抛光加工工艺试验研究
第38-50页
·引言
第38页
·纳米胶体射流抛光的主要工艺参数
第38页
·纳米胶体射流抛光去除效率试验研究
第38-45页
·抛光时间对去除深度的影响
第40-41页
·喷射压力对去除深度的影响
第41-42页
·喷射距离对去除深度的影响
第42-43页
·胶体浓度对去除深度的影响
第43页
·胶体酸碱度对去除深度的影响
第43-44页
·喷射角度与表面轮廓的关系
第44-45页
·纳米胶体射流抛光表面粗糙度试验研究
第45-49页
·本章小结
第49-50页
结论
第50-51页
参考文献
第51-55页
致谢
第55页
论文编号
BS634343
,这篇论文共
55
页
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19.25
元。 直接购买按0.5元/页下载,共需要支付
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