摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-31页 |
·引言 | 第9页 |
·光子晶体概述 | 第9-11页 |
·光子晶体的基本理论 | 第11-15页 |
·光子带隙的形成 | 第11-12页 |
·光子晶体的特征 | 第12-15页 |
·光子晶体的理论研究方法 | 第15-17页 |
·平面波展开法 | 第15-16页 |
·转移矩阵法 | 第16页 |
·分时域法 | 第16-17页 |
·单分散SiO_2微球的制备技术 | 第17-18页 |
·经典St(o|¨)ber法 | 第17页 |
·溶胶种子法 | 第17-18页 |
·微乳液法 | 第18页 |
·光子晶体的制备 | 第18-26页 |
·精密加工法 | 第19-20页 |
·微电子制备技术 | 第20页 |
·逐层叠加法 | 第20-21页 |
·自组装法 | 第21-26页 |
·光子晶体的应用 | 第26-28页 |
·低一位滋光 | 第26-27页 |
·光子晶体光纤 | 第27页 |
·微波天线 | 第27-28页 |
·发光二极管 | 第28页 |
·课题背景 | 第28-31页 |
·问题的提出 | 第29页 |
·本文的工作 | 第29-31页 |
第二章 两步生长法制备SiO_2微球及其生长机制研究 | 第31-39页 |
·引言 | 第31页 |
·实验 | 第31-32页 |
·实验材料 | 第31-32页 |
·实验设备及仪器 | 第32页 |
·实验过程 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-38页 |
·NH_4~+浓度、PH值和TEOS量对单分散SiO_2微球尺寸的影响 | 第32-34页 |
·快速投料和两步法生长制备的SiO_2微球的红外光谱分析 | 第34-35页 |
·二步生长法制备SiO_2微球 | 第35-37页 |
·滴定速率和扩散生长模型对SiO_2微球生长的影响 | 第37-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
第三章 改进St(|¨)ber法制备SiO_2微球及Opal结构光子晶体的制备 | 第39-57页 |
·引言 | 第39-40页 |
·实验 | 第40页 |
·实验材料 | 第40页 |
·实验设备及仪器 | 第40页 |
·光子晶体用单分散SiO_2微球的制备 | 第40-43页 |
·传统St(o|¨)ber法制备单分散SiO_2微球 | 第40-42页 |
·改进St(o|¨)ber法制备单分散SiO_2微球 | 第42-43页 |
·玻璃基底上制备二维光子晶体 | 第43-50页 |
·胶体粒子间的毛细管力 | 第43-45页 |
·液体流动及毛细管力促使二维光子晶体的形成过程 | 第45-46页 |
·液体流动及毛细管力促使光子晶体在玻璃基底上的形成 | 第46-50页 |
·离心沉降法制备SiO_2 Opal结构光子晶体 | 第50-56页 |
·离心沉降法原理 | 第50-51页 |
·SiO_2光子晶体的离心沉降法制备 | 第51-54页 |
·离心沉降法制备SiO_2光子晶体的断口形貌 | 第54-56页 |
·小结 | 第56-57页 |
第四章结论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
致谢 | 第65页 |