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RCWA方法及其在集成电路检测中的运用 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-6页 | | ABSTRACT | 第6-10页 | | 第一章 绪论 | 第10-14页 | | ·衍射光学元件及其分析方法 | 第10-11页 | | ·衍射光学元件基本概念 | 第10页 | | ·分析方法 | 第10-11页 | | ·国内外研究现状 | 第11-13页 | | ·本论文的研究内容安排 | 第13-14页 | | 第二章 一维严格耦合波分析（RCWA）原理 | 第14-39页 | | ·一维 RCWA 基本介绍 | 第14-15页 | | ·光栅介电常数的傅里叶级次展开 | 第15-18页 | | ·简单光栅相对介电常数傅里叶级次展开 | 第15-16页 | | ·多介质光栅相对介电常数傅里叶级次展开 | 第16-18页 | | ·TE 偏振 | 第18-22页 | | ·TM 偏振 | 第22-27页 | | ·任意偏振 | 第27-38页 | | ·本章小结 | 第38-39页 | | 第三章 RCWA 分析软件使用与实现 | 第39-46页 | | ·编程工具的基本介绍 | 第39-40页 | | ·Visual Studio | 第39页 | | ·VC++ | 第39页 | | ·C# | 第39-40页 | | ·RCWA 分析软件介绍 | 第40-42页 | | ·RCWA 分析软件测试 | 第42-45页 | | ·TE 偏振结果测试 | 第43页 | | ·TM 偏振结果测试 | 第43-44页 | | ·任意偏振结果测试 | 第44-45页 | | ·本章小结 | 第45-46页 | | 第四章 RCWA 在集成电路检测中的应用 | 第46-61页 | | ·OCD 设备概述 | 第46-48页 | | ·对浅沟槽隔离结构的应用研究 | 第48-55页 | | ·浅沟槽隔离介绍 | 第48-49页 | | ·浅沟槽隔离结构(STI)分析 | 第49-55页 | | ·材料的介电常数分析 | 第49-51页 | | ·OCD 设备的稳定性分析 | 第51-54页 | | ·浅沟槽隔离样品结构分析 | 第54-55页 | | ·对硅沟槽的应用研究 | 第55-59页 | | ·本章小结 | 第59-61页 | | 第五章 一维 RCWA 建库方法及其应用 | 第61-69页 | | ·高维多次 Lagrange 插值 | 第61-62页 | | ·一维 RCWA 收敛层数的研究 | 第62-63页 | | ·一维 RCWA 建库模块 | 第63-68页 | | ·一维 RCWA 建库原理 | 第63-66页 | | ·一维 RCWA 建库模块的应用 | 第66-68页 | | ·本章小结 | 第68-69页 | | 第六章 结束语 | 第69-70页 | | 致谢 | 第70-71页 | | 参考文献 | 第71-74页 | | 攻硕期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
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论文编号BS1994944，这篇论文共75页
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