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磁控溅射放电等离子体与非蒸发型吸气薄膜
 
     论文目录
 
摘要第4-6页
Abstract第6-8页
首字母缩略词第9-12页
1 绪论:从等离子体到薄膜材料沉积第12-43页
    1.1 物理溅射沉积第13-19页
        1.1.1 薄膜生长的结构区域模型第13-15页
        1.1.2 等离子体放电类型第15-16页
        1.1.3 帕邢定律第16-17页
        1.1.4 固体表面的离子轰击效应第17-19页
    1.2 E × B放电等离子体动力学第19-35页
        1.2.1 溅射放电装置第19-27页
        1.2.2 电势峰第27-28页
        1.2.3 等离子体局域化:电离辐第28-31页
        1.2.4 电流陡增效应第31-32页
        1.2.5 自溅射效应和气体析出效应第32-35页
    1.3 吸气材料第35-41页
        1.3.1 吸气材料的工作原理第35-37页
        1.3.2 吸气材料的选择第37-41页
        1.3.3 吸气材料的应用:粒子加速器第41页
    1.4 本文研究目的第41-43页
2 磁控溅射等离子体动力学第43-78页
    2.1 研究背景第43-44页
    2.2 实验装置和实验方法第44-52页
        2.2.1 放电系统第45-46页
        2.2.2 帧成像第46-47页
        2.2.3 条纹成像第47-48页
        2.2.4 粒子质量能量分析第48-51页
        2.2.5 悬浮电位探针第51-52页
    2.3 结果与讨论第52-76页
        2.3.1 高功率脉冲磁控溅射(高电流密度)第52-63页
        2.3.2 脉冲磁控溅射(中等电流密度)第63-69页
        2.3.3 直流和脉冲磁控溅射(低电流密度)第69-76页
    2.4 第二章总结第76-78页
3 在极细管状腔内沉积非蒸发吸气材料第78-97页
    3.1 研究背景第78-80页
    3.2 实验装置与实验方法第80-85页
        3.2.1 沉积装置第81-83页
        3.2.2 扫描电子显微镜第83页
        3.2.3 能量色散X射线光谱仪第83-84页
        3.2.4 卢瑟福背散射仪和粒子激发X射线荧光分析仪第84-85页
    3.3 绞线阴极和合金阴极沉积的比较第85-96页
        3.3.1 绞线阴极沉积的实验结果与讨论第86-90页
        3.3.2 合金线阴极沉积的实验结果与讨论第90-93页
        3.3.3 卢瑟福背散射分析的准确性讨论第93-96页
    3.4 第三章总结第96-97页
4 全文总结与展望第97-102页
    4.1 全文总结第97-100页
    4.2 研究亮点第100页
    4.3 研究展望第100-102页
致谢第102-104页
附件第104-105页
参考文献第105-112页
附录1 攻读博士学位期间发表论文、参会和获奖情况第112-113页

 
 
论文编号BS2523944,这篇论文共113
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