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金属氧化物复合材料的制备及其气敏性能研究
 
     论文目录
 
摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第15-33页
    1.1 气体传感器及指标第15-16页
    1.2 半导体气敏材料的研究进展第16-17页
    1.3 n型半导体气敏材料第17-21页
        1.3.1 氧化铟气敏材料介绍第18-19页
        1.3.2 氧化铟制备方法第19-20页
        1.3.3 氧化铟气敏材料的研究现状第20-21页
    1.4 p型半导体气敏材料第21-24页
        1.4.1 氧化亚铜气敏材料介绍第22页
        1.4.2 氧化亚铜制备方法第22-24页
        1.4.3 氧化亚铜气敏材料的研究现状第24页
    1.5 石墨烯气敏材料第24-27页
        1.5.1 石墨烯型气敏材料介绍第25-26页
        1.5.2 石墨烯气敏材料的研究现状第26-27页
    1.6 提高气敏性能的手段第27-32页
        1.6.1 提高比表面积第27-28页
        1.6.2 金属负载第28-30页
        1.6.3 复合掺杂第30-32页
    1.7 本论文研究的目的和意义第32-33页
        1.7.1 本论文研究目的和意义第32页
        1.7.2 本论文研究内容第32-33页
第二章 稀土掺杂3DOM In_2O_3制备及气敏性能研究第33-67页
    前言第33-34页
    2.1 实验部分第34-39页
        2.1.1 试剂第34页
        2.1.2 实验仪器第34-35页
        2.1.3 稀土掺杂3DOM氧化铟制备第35-39页
    2.2 实验结果与讨论第39-66页
        2.2.1 PMMA模板的表征第39页
        2.2.2 稀土掺杂3DOM氧化铟的研究第39-54页
        2.2.3 气敏机理的分析第54-59页
        2.2.4 掺杂比例的影响第59-66页
            2.2.4.1 不同铥掺杂比例产物的形貌第59-60页
            2.2.4.2 不同铥掺杂比例产物的组成、结构和表面分析第60-64页
            2.2.4.3 不同比例铥掺杂产物的气敏性能测试第64-66页
    2.3 本章小结第66-67页
第三章 氧化亚铜/还原氧化石墨烯(Cu_2O/RGO)复合纳米材料的制备及气敏性能第67-83页
    前言第67页
    3.1 实验部分第67-70页
        3.1.1 实验试剂与仪器第67-68页
        3.1.2 氧化石墨烯(GO)的制备第68-69页
        3.1.3 氧化亚铜/还原氧化石墨烯(Cu_2O/RGO)复合物的制备第69页
        3.1.4 气敏元件制备及测试方法第69-70页
    3.2 实验结果与讨论第70-81页
        3.2.1 氧化石墨烯的表征第70-73页
        3.2.2 还原氧化石墨烯/氧化亚铜(Cu_2O/RGO)复合材料表征第73-77页
        3.2.3 气敏性能测试第77-79页
        3.2.4 气敏机理推断第79-81页
    3.3 本章小结第81-83页
第四章 结论第83-85页
参考文献第85-93页
致谢第93-95页
研究成果及发表的学术论文第95-97页
作者和导师简介第97-98页
附件第98-99页

 
论文编号BS2619794,这篇论文共99
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