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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--碳化硅SBD和MESFETs功率器件研究
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碳化硅SBD和MESFETs功率器件研究
 
     论文目录
 
摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 引言第10-19页
   ·SiC材料基本特性和研究背景第12-14页
     ·SiC材料基本特性第12-14页
     ·SiC功率器件的研究背景第14页
   ·SiC功率器件的国内外发展情况第14-17页
     ·SiC功率器件国内发展情况第14-15页
     ·SiC功率器件国外发展情况第15-17页
   ·存在问题及击穿特性研究第17-18页
   ·本论文主要工作第18-19页
第二章 器件分析工具、模型及软件收敛性分析第19-39页
   ·ISE介绍第19-20页
     ·概要说明第19-20页
     ·使用流程第20页
   ·物理模型第20-26页
     ·三个基本方程第21页
     ·输运方程第21-22页
     ·常用的物理模型及其模型参数第22-26页
   ·收敛性分析和研究第26-39页
     ·牛顿算法简介第26-29页
     ·收敛性判别参数分析第29-30页
     ·收敛性问题的解决思路第30-31页
     ·收敛性判别参数分析的验证第31-38页
     ·结论第38-39页
第三章 新型4H-SiC阳极凹槽D-RESURF肖特基二极管研究第39-55页
   ·引言第39-44页
     ·器件反向击穿电压第39-40页
     ·RESURF技术第40-44页
   ·器件结构第44-45页
   ·单RESURF肖特基二极管(SR-SBD)击穿特性研究第45-48页
   ·阳极凹槽D-RESURF肖特基二极管击穿特性研究第48-53页
     ·P降场层浓度对反向阻断特性的影响第48-49页
     ·P降场层长度对反向阻断特性的影响第49-53页
   ·结论第53-55页
第四章 4H-SiC MESFETS多浮空金属环击穿电压的研究第55-67页
   ·引言第55-57页
     ·MESFETs结构第55-56页
     ·结终端技术第56-57页
   ·器件二维数值模拟分析第57-66页
     ·4H-SiC MESFETs多浮空金属环结构第57-58页
     ·单金属环结构尺寸对击穿电压的影响第58-61页
     ·双金属环尺寸对击穿电压的影响第61-65页
     ·多浮空金属环的正向I-V特性研究第65页
     ·频率特性研究第65-66页
   ·结论第66-67页
第五章 结论第67-68页
致谢第68-70页
参考文献第70-74页
攻硕期间取得的研究成果第74页

 
 
论文编号BS518994,这篇论文共74
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